[논문]대향타겟 스퍼터링법으로 증착한 AZO 투명전도성 필름

대향타겟 스퍼터링법으로 증착한 AZO 투명전도성 필름
Medium frequency current sputtered face target aluminum zinc oxide transparent conductive film 원문보기

장혜영 (한국기술교육대학교 에너지 신소재 화학공학부) , 최인규 (한국기술교육대학교 에너지 신소재 화학공학부) , 김상호 (한국기술교육대학교 에너지 신소재 화학공학부)

대향타겟식 스퍼터링법을 이용해 유연한 기판에 증착시켜 고주파 마그네트론 스퍼터링보다 덜 손상이 입히도록 증착 시켰으며, 플라즈마 주파수를 다양하게 하여 밴딩테스트 후 나빠지는 전기적, 광학적 특성을 개선하고, 그 원인을 분석하였다.

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본 연구에서는 기판에 과도한 손상을 막기 위하여 대향타겟식 스퍼터링법를 이용하였고, 유연한 기판을 위해 폴리이미드 필름을 사용하였다. 플라즈마 조건은 Table 1의 조건으로 상온, 아르곤 분위기에서 증착하였고 플라즈마 주파수의 범위를 kHz로 다양하게 증착시켜, 일반적으로 사용되고 있는 주파수인 13.56MHz와의 면저항과 투과도의 특성을 비교하고, 벤딩테스터 후 특성 변화를 관찰했다.

본 연구에서는 기판에 과도한 손상을 막기 위하여 대향타겟식 스퍼터링법를 이용하였고, 유연한 기판을 위해 폴리이미드 필름을 사용하였다. 플라즈마 조건은 Table 1의 조건으로 상온, 아르곤 분위기에서 증착하였고 플라즈마 주파수의 범위를 kHz로 다양하게 증착시켜, 일반적으로 사용되고 있는 주파수인 13.

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