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문제 정의
- DC 플라즈마 스퍼터링 시스템은 DC 전력을 전달하기 위한 DC power supply와 과충전 된 전하를 회수하는 동작을 하기 위한 DC pulse 장치 그리고 진공 챔버로 구성되어있다. 공정의 특성상 아크방지에 대한 대책을 필요로 하기 때문에 DC pulse 장치에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있으며 본 논문에서도 DC pulse 장치 성능 향상을 위한 연구를 진행하였다.
- 이에 본 논문에서는 먼저 플라즈마 스퍼터링 공정에 대해 설명하고, 일반적인 플라즈마 스퍼터링 공정용 DC 전원장치 구조 및 동작에 대한 설명하게 된다. 그리고, 플라즈마 스퍼터링 공정용 DC 전원장치의 성능 향상 및 개선을 위한 연구에 대하여 설명한다. 마지막으로 연구 내용은 시뮬레이션을 통하여 전원장치의 동작을 확인하게 된다.
- 본 논문은 플라즈마 공정용 DC 전원장치에 관한 연구를 진행하였다. 기존의 플라즈마 공정용 DC 전원장치는 단순화된 구조를 통해 장비의 안정성이 크며 구성이 간편하다는 장점을 가지고 있다.
- 플라즈마 스퍼터링 공정은 공정 및 특성에 따라 아크방지를 위한 음(-) 전압 인가, 이온화 상태 유지, 이그니션 전압 등 다양한 조건의 전원 품질을 위한 제어환경을 요구하게 된다. 이에 본 논문에는 DC 플라즈마 전원장치의 출력품질을 향상하기 위한 연구를 진행하였으며 회로 동작 및 특성에 대하여 설명하였다. 논문의 연구 내용은 시뮬레이션 프로그램을 통하여 동작 및 특성을 확인할 수 있었다.
- 기존의 장치는, 장치의 단순화에 의해 장비 동작의 안정성이 크다는 장점을 가지고 있지만, 반대로 단순화된 구조에 의해 출력전압을 자유롭게 조정하기 힘들다는 단점을 가지고 있다. 이에 본 논문에서는 먼저 플라즈마 스퍼터링 공정에 대해 설명하고, 일반적인 플라즈마 스퍼터링 공정용 DC 전원장치 구조 및 동작에 대한 설명하게 된다. 그리고, 플라즈마 스퍼터링 공정용 DC 전원장치의 성능 향상 및 개선을 위한 연구에 대하여 설명한다.
- 플라즈마 공정은 코팅물 종류에 따라 필요로 하는 전원이 분류 될 수 있다. 주로 RF 전원을 필요로 하는 AC 공정과 Pulse 전원을 필요로 하는 DC 공정으로 나뉠 수 있으며 본 논문에서는 DC 공정용 전원장치에 대하여 다룬다.
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