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전기화학적 임피던스 분석법을 이용한 우라늄 전착 특성 분석 원문보기

한국방사성폐기물학회 2011년도 추계학술논문요약집, 2011 Oct. 13, 2011년, pp.195 - 196  

김가영 (한국원자력연구원) ,  김시형 (한국원자력연구원) ,  윤달성 (한국원자력연구원) ,  백승우 (한국원자력연구원) ,  김택진 (한국원자력연구원) ,  김광락 (한국원자력연구원) ,  심준보 (한국원자력연구원) ,  정재후 (한국원자력연구원) ,  안도희 (한국원자력연구원)

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문제 정의

  • 본 연구에서는 임피던스 분석법을 이용하여 우라늄 전착 반응 메커니즘을 분석하고자 하였다. 이를 위한 기초연구로서, 액체카드뮴전극 대신 고체전극 (Mo)을 이용하여 CV 곡선 및 임피던스 곡선을 측정하고 등가회로 (equivalent circuit)# 구성하여 우라늄 전착에 관련된 전기화학적 특성을 분석하였다.
  • 본 연구에서는 전기화학적 임피던스 측정을 통해 고체전극에서 일어나는 우라늄의 전착 메커니즘을 분석하였다. 그 결과, 용융염 bulk에서 전극 표면으로의 물질 전달 (mass transfer), 전극계면에서 U3+으로의 전자전달 (charge transfer) 외에, 환원된 U가 표면을 따라 이동하여 (surface diffusion) lattice를 형성하는 요소가 관여된 것을 알 수 있었다.
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