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CoSiB/Pt/CoSiB 구조의 Hall Effect 연구 원문보기

한국자기학회 2015년도 임시총회 및 하계학술연구발표회, 2015 May 28, 2015년, pp.148 - 148  

김성용 (세종대학교 신소재공학과) ,  이하나 (세종대학교 신소재공학과) ,  김영광 (세종대학교 신소재공학과) ,  김태완 (세종대학교 신소재공학과)

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제안 방법

  • 을 선택하여 연구를 진행하였다. 기존 실험인 [CoSiB/Pt]N 다층박막과는 다른 구조인 샌드위치 형식의 [CoSiB/Pt/CoSiB] 구조로 제작하여 특성을 알아보았다. 시료는 DC스퍼터링 장비를 사용하였고 기본진공도 5×10-8 Torr, 공정진공도 3×10-3 Torr 유지하면서 CoSiB/Pt(tPt)/CoSiB 제작하였다.

대상 데이터

  • 본 연구에서는 열적 안정성이 확보된 비정질 합금인 Co75Si15B10을 선택하여 연구를 진행하였다. 기존 실험인 [CoSiB/Pt]N 다층박막과는 다른 구조인 샌드위치 형식의 [CoSiB/Pt/CoSiB] 구조로 제작하여 특성을 알아보았다.
  • 시료는 DC스퍼터링 장비를 사용하였고 기본진공도 5×10-8 Torr, 공정진공도 3×10-3 Torr 유지하면서 CoSiB/Pt(tPt)/CoSiB 제작하였다.

이론/모형

  • 이때, Pt 층의 두께(tPt=17~32 Å)를 다르게 하였다. 그리고 Van der pauw방식을 이용하고, 자기장 -1500 ~ 1500 Oe 가변하여 Hall측정 하였다.
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