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문제 정의
- OLED, OPV 같은 인쇄전자소자의 구조를 살펴보면 전면 코팅이 필요한 투명 전극층과 부분면 코팅이 요구되는 반도체잉크 및 접촉 전극층 으로 구성되며, 전면 코팅이 필요한 투명 전극층의 두께는 40nm 이하, 부분면 코팅이 요구되는 활성층 또는 발광층은 50-200nm, 버퍼층은 50nm 이하, 접촉 전극층은 1um 이상의 두께를 코팅해야 하는데, 본 연구에서는 이들 소자를 제작하기 위한 멀티 코터의 공정기술과 개발된 장비를 소개하고자 한다. 나노박막두께 코팅을 위해 먼저, 정전기력 스프레이 증착법 으로 기판상에 전도성 고분자 입자를 적층하여 투명전극을 제조하는 방법을 개발하였는데, Fig.
- 이 시스템의 특징은 텐션을 정밀하게 하기 위해 변화하는 정보를 줄이는 Idle Roller 의 개수를 최소화하는 설계와 동기제어 기능의 Infeeding 전, 후의 Tension 을 독립 시키는 기능이 필요하다. 또한 값비싼 잉크를 적절히 공급하기 위하여 Dispenser, 코팅유닛의 저진동 메커니즘 구성 및 Web Tension 을 정밀하게 제어하기 위한 서보 기구와 롤과 Web 의 최적의 각도유지, 다양한 잉크의 종류와 점도에 따른 건조기법의 최적 적용이 가능하게 설계하는 것이다.
- 그리고 수십 나노에서 수 마이크로의 두께로 설계되어 있음을 알 수 있다. 본 연구에서는 ESD, Air Hybrid ESD, u-Gravure Coater 장비를 개발하고 공정연구를 통해 코팅두께와 표면거칠기, 코팅속도 결과 데이터를 확보하고 연속생산공정 기술 등을 비교하여 소자 개발자에게 공급하여 상용화를 앞당기는 것을 그 목적으로 하고 있다.
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