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소프트 리소그라피를 응용한 잉크젯 미세 전극 형성
High-resolution inkjet-printed conductive pattern assisted by soft lithography 원문보기

한국정밀공학회 2012년도 추계학술대회 논문집, 2012 Oct. 24, 2012년, pp.93 - 94  

성지수 (한양대학교 기계설계.메카트로닉스공학과) ,  오제훈 (한양대학교 기계설계.메카트로닉스공학과)

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문제 정의

  • 본 연구에서는 소프트 리소그라피 기술을 응용한 고해상도의 잉크젯 전극 패턴을 형성하는 방법을 제시하였다. 소프트 리소그라피를 이용하여 상이한 젖음성을 가지는 미세 패턴을 형성하였으며 이는 잉크젯 프린팅을 통한 고 해상도의 전극 패턴을 형성하는데 기여할 수 있음을 확인하였다.
  • 본 연구에서는 최근 수 나노미터의 미세 패턴이 구현이 가능한 기술로서 각광받고 있는 소프트 리소그라피 기술 [3-4] 을 응용하여 상이한 젖음성 (Wettability) 표면을 가지는 구조를 형성하여 고 해상도의 전극 패턴을 형성 하는 방법을 제시한다. (poly)dimethyl siloxane (PDMS) stamp 를 사용한 나노 임프린트 (nanoimprint) 수행 시의 압력, 시간에 따른 결과 및 구조물의 상이한 젖음성을 위한 UV 처리 시간의 영향을 체계적으로 분석하였다.
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