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이미지 데이터 분석을 통한 반도체 화학물질 누액 검출연구
A Study on the Detection of Semiconductor Chemical Leakage through Image Data Analysis 원문보기

한국컴퓨터정보학회 2023년도 제68차 하계학술대회논문집 31권2호, 2023 July 12, 2023년, pp.669 - 670  

유상택 (한양사이버대학원 기계IT융합공학전공) ,  민연아 (한양사이버대학교 응용소프트웨어공학과)

초록
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본 논문에서는 열화상 카메라 및 주변 환경요인 측정 시스템을 이용하여 각종 반도체 제조공정에 사용되는 화학물질의 누수를 검출하는 방안을 제안한다. 이는 대형화되고 복잡한 집적배관이 시공되어 있는 공장 환경에서 검출센서를 통한 화학물질 누수 관리를 열화상 시스템으로 대체함으로써 보다 정확하고 안정적인 모니터링을 통해 신속한 대응 및 관리가 가능할 것이다. 또한 본 연구를 통해 누수 배관표면의 열패턴을 실시간으로 모니터링 함으로 기존 누수 검출 센서(면적식 라인타입의 센서)에 대비하여 20% 이상 검출의 신속성 향상을 보장할 수 있다.

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