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NTIS 바로가기국가/구분 | 일본특허청(JP) 공개특허 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP-0122088 (1997-05-13) |
공개번호 | JP-0312063 (1998-11-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forming method of a photoresist pattern for a lift-off process by which high accuracy patterning can be easily performed when lead electrodes are to be formed to constitute a thin film magnetic head. SOLUTION: A first photoreslst layer 11 is formed in such a manner
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