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NTIS 바로가기국가/구분 | 일본특허청(JP) 공개특허 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP-0149009 (2010-06-30) |
공개번호 | JP-0026702 (2011-02-10) |
우선권정보 | JP-2009156955(2009-07-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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(PURPOSE)To provide a sputtering target material of an Fe-Co-Ni-based alloy having low magnetic permeability, which can improve the efficiency of use in the magnetron sputtering, and can increase the plate thickness of the target. ! The sputtering target material of the Fe-Co-Ni-based alloy is forme
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