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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1985-0002376 (1985-04-09) |
공개번호 | 10-1985-0007450 (1985-12-04) |
공고번호 | 10-0050527-0000 (1991-10-21) |
등록번호 | 10-0050527-0000 (1992-04-06) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019850002376 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1989-04-20) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
인쇄 회로판용 수성 현상식 건조막 내식막을 형성하는데 사용되는 광중합성 수지 조성물 및 이를 공업적으로 유리하게 제조하는 방법을 제공한다.메틸메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트 및 메타크릴산의 공중합체로 이루어진 결합제 수지 40 내지 85중량%; 분자내에 2개 이상의 에틸렌성 불포화 그룹을 함유하는 교차 결합성 모노머 15 내지 60중량%; 및 결합제 수지와 교차 결합성 모노머의 전량을 기준으로 하여 0.5 내지 10중량%의 광개시제로 이루어진 조성물을 건조시켜 조성물로 부터 용매를 건조시켜 광중합성 수지 조성물을 제조한다. 상기에서
메틸메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트 및 메타그릴산의 공중합체로 이루어진 결합제 수지 40 내지 85중량%: 분자내에 2개 이상의 에틸렌성 불포화 그룹을 함유하는 교차결합성 모노머 15 내지 60중량% 및 결합제 수지와 교차결합성 모노머의 전량을 기준으로 하여 0.5 내지 10중량%의 광개시제로 이루어진 광중합성수지 조성물.
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