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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1986-0002726 (1986-04-10) |
공개번호 | 10-1986-0008279 (1986-11-14) |
공고번호 | 10-0028902-0000 (1989-04-28) |
등록번호 | 10-0028902-0000 (1989-08-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019860002726 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
원료물진인 인돌로부터 트립토판을 효소함에 있어서, 다공성 양이온 교환수지를 이용하여 미반응 인돌이 10ppm이하로 감소된 트립토판으로 정제하는 방법을 제공한다.원료물질인 인돌로부터 효소작용에 의해 제조된 트립조판의 반응액을 다공성 양이온 교환수지층을 통과시키고, 수지의 이온교환부에 트립토판을 흡착및 용리시키는 처리와 재생을 반복해서 행하고, 이어서 수지의 다공부체 흡착된 인돌을 물과 혼화될 수 있는 함수 유기용매로 용리시키고, 얻어진 용리액으로부터 인돌을 유리시켜 트립토판을 분리한다.
원료물질인 인돌로부터 효소작용에 의해 제조된 트립토판의 반응액을 다공성 양이온 교환수지층을 통과시켜서, 수지의 이온교환부에 트립토판을 흡착시키는 한편 수지의 다공부에 인돌을 흡착시킨후, 수지의 이온교환부에 흡착된 트립토판만을 알카리 수용액 혹은 산수용액으로 용리시켜 인돌을 거의 포함하지 않는 트립토판을 얻는 것을 특징으로 하는 트립토판의 정제방법.
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