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립스틱 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • A61K-007/27
출원번호 10-1990-0022525 (1990-12-29)
공개번호 10-1992-0011473 (1992-07-24)
DOI http://doi.org/10.8080/1019900022525
발명자 / 주소
  • 최병수 / 경기도안양시석수*동***-**(**/*)
출원인 / 주소
  • 한국화장품주식회사 / 서울 종로구 서린동 **번지
대리인 / 주소
  • 김연수 (HAN YANG Patent Firm KIM, Yeon Soo)
  • 서울시 강남구 역삼동 ***-** 큰길타워*층(한양특허법인)
심사청구여부 있음 (1990-12-29)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

[목적]왁스성분,유상성분,안료,미용성분 및 첨가제를 함유하는 통상의 립스틱에 스핑고세릴 왁스를 첨가하여 입술건조 및 입술 갈라짐을 방지하는 기능성 립스틱을 제조하는 것이다.[구성]왁스성분,유상성분,안료,미용성분 및 첨가제로 구성된 일반적인 립스틱 조성물에 옥시도데칸올,포스포리피드,스핑고리피드,지방산,콜레스테롤로 이루어진 스핑고세릴 왁스를 약 0.03 내지 30중량 퍼센트 포함시켜 제조한다.[효과]제1도의 사진에서 알 수 있듯이 입술의 세포내에 스핑고 지질 성분이 침투되면서 입술의 건조화 및 입술의 갈라짐 현상을 방지할 수 있다.

대표청구항

왁스성분, 유상성분, 안료, 미용성분 및 첨가제로 이루어지는 립스틱 조성물에 있어서, 립스틱 조성물에 스핑고세릴 왁스를 0. 3∼30. 0 중량% 함유시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 기능성 립스틱 조성물.

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