초록 ▼

질소운반가스중의 고체 아르곤 입자를 함유한 에어로졸 충돌스트림을 미립자의 오염감응면에 충돌시킴으로써, 감응 마이크로 전자표면으로 부터 입자 및 필름을 세척하고, 세척 에어로졸 자체의 입자에 의한 재오염을 막는다.공기의 극저온 증류에 의해 고순도로 정제된 아르곤과 질소는 각각 공업용 가스실린더(10)(18)에 의해 공급되어 매니포울드(16)에서 혼합되고, 전기 아르곤과 질소기체 혼합물은 필터(26)을 통과함으로써 추가로 세척되며, 간접열교환기(28)내에서 가압상태하에서 액화점 이상의 온도로 예비냉각시켜서 잔류 응축가능한 불순믈을 상기

질소운반가스중의 고체 아르곤 입자를 함유한 에어로졸 충돌스트림을 미립자의 오염감응면에 충돌시킴으로써, 감응 마이크로 전자표면으로 부터 입자 및 필름을 세척하고, 세척 에어로졸 자체의 입자에 의한 재오염을 막는다.공기의 극저온 증류에 의해 고순도로 정제된 아르곤과 질소는 각각 공업용 가스실린더(10)(18)에 의해 공급되어 매니포울드(16)에서 혼합되고, 전기 아르곤과 질소기체 혼합물은 필터(26)을 통과함으로써 추가로 세척되며, 간접열교환기(28)내에서 가압상태하에서 액화점 이상의 온도로 예비냉각시켜서 잔류 응축가능한 불순믈을 상기 아르곤 가스 함유 스트림이 통과하는 열교환기(28)의 통로(30) 내면 또는 내벽에 부착시킴으로써 제거하고, 전기 예비냉각된 아르곤 함유 스트림을 약 20 내지 690psig의 압력과 아르곤의 액화점 이상의 온도에서 팽창시키되, 고체인 아르곤 입자들을 주울-톰슨 효과에 의해 팽창시키기 위해 진공펌프등과 같은 진공발생장치에 연결된 밸브(46) 및 라인(44)를 통해 제공된 진공 조건하에 있는 초세정 처리실(34) 내에서 세척할 오염된 표면(40)에 적어도 거의가 고체 아르곤 입자인 에어로졸(38)을 지향시키는 드로우트(throat) 및 다양하게 조절가능한 감소된 지름을 가지는 구멍(orifice)로 구성된 팽창노즐(36)내에서 팽창시킴으로써, 고체 아르곤 입자 함유 에어로졸(38)을 형성하며, 세척될 표면(40)에 대해 노즐(36)에 의해 상기 고체 아르곤 입자 함유 에어로졸(38)을 분사함으로써 오염 입자를 제거한다.

대표청구항

적어도 거의가 고체 아르곤 입자들인 에어로졸의 임핀징 스트림을 사용하여 입자 및/또는 필름을 포함한 표면으로 부터 오염물 입자 및/또는 필름을 제거하는 방법으로서, 팽창전의 스트림 압력하에서 아르곤의 액화점 이상의 오도로, 가압된 기체 아르곤 입자인 에어로졸을 형성하기 위해 상기 팽창에 의해 수득한 것을 냉각시킴으로써 상기 스트림중 적어도 거의 대부분이 고체인 아르곤 입자를 형성시키는 단계 및 상기 오염물 입자 및/또는 필름을 제거하기 위해 표면에 상기 에어로졸을 분사시키는 단계를 포함하는 방법.

적어도 거의가 고체 아르곤 입자들인 에어로졸의 임핀징 스트림을 사용하여 입자 및/또는 필름을 포함한 표면으로 부터 오염물 입자 및/또는 필름을 제거하는 방법으로서, 팽창전의 스트림 압력하에서 아르곤의 액화점 이상의 오도로, 가압된 기체 아르곤 입자인 에어로졸을 형성하기 위해 상기 팽창에 의해 수득한 것을 냉각시킴으로써 상기 스트림중 적어도 거의 대부분이 고체인 아르곤 입자를 형성시키는 단계 및 상기 오염물 입자 및/또는 필름을 제거하기 위해 표면에 상기 에어로졸을 분사시키는 단계를 포함하는 방법.