최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-1992-0027501 (1992-12-31) |
공개번호 | 10-1994-0014826 (1994-07-19) |
공고번호 | 10-0081005-0000 (1994-09-15) |
등록번호 | 10-0081005-0000 (1994-12-31) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019920027501 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (1992-12-31) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 분상입자의 분급효율이 높은 유동층 환원방법에 관한 것으로, 특히 분철광석을 유동층 환원로를 사용하여 적접환원시 유동층 환원로 상부에 비산된 상태에서 잔류하는 입자들이 외부로 유출되도록 하여 유동층 환원로의 연속조업을 용이하게 하는 입자분급효율이 높은 유동층 환원방법에 관한 것이다.즉 유동층환원로의 대립철광석 밀집층 직상부의 일부벽면을 상부로 갈수록 단면적이 작아지는 경사부로 하여 유동층에 의한 철광석환원시 희박상내에 부유잔류하는 중립철광석이 유동층로 외부로 유출되도록 하여 유동층내에서 미립 및 중립철광석이 대립 철광석과
고체입자의 유동층 처리방법에 있어서, 유동층로 하부의 대립입자가 유동하는 밀집층 직상부의 일부벽면을 상부로 갈수록 단면적이 작아지는 경사부로 하여 입자분급율을 높인 유동화 방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.