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저 저항세라믹PTC 소자 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01C-007/02
출원번호 10-1993-0010372 (1993-06-08)
공개번호 10-1995-0001788 (1995-01-03)
공고번호 10-0103765-0000 (1996-02-17)
등록번호 10-0103765-0000 (1996-08-23)
DOI http://doi.org/10.8080/1019930010372
발명자 / 주소
  • 오권오 / 서울특별시강남구대치*동은마아파트**동****호
  • 노광수 / 대전직할시유성구어은동한빛아파트***동****호
  • 김창정 / 서울특별시강남구논현동*-**호
출원인 / 주소
  • 만도기계 주식회사 / 경기 군포시 당동 ***번지
대리인 / 주소
  • 정호택 (CHUNG, Ho Taek)
  • 서울시 강남구 역삼동 ***-**(대흥빌딩***)
심사청구여부 있음 (1993-06-08)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 저저항 세라믹 PTC 소자 제조방법에 관한 것으로서 특히 이미 만들어진 시편에 대해 후속열처리와 전장을 동시에 줌으로서 상온저항이 감소하고, 고온저항의 증가를 가져오게 하여 세라믹 PTC 소자 특성을 향상시킬 수 있도록 한것이다.본 발명은 이미 만들어진 시편을 챔버내에서 300℃까지 반복열처리하는 공정과, 전기 반복열처리후 10-35V의 전장을 인가하여 상온저항이 낮아지고 고온저항이 증가하도록 제조한 것이다.

대표청구항

세라믹 PTC 소자의 상온저항을 낮추기 위한 것에 있어서, 이미 만들어진 시편을 챔버내에서 300℃까지 반복 열처리하는 공정과, 반복 열처리와 동시에 10-35V의 전장을 인가하여 상온 저항이 낮아지고 고온저항이 증가하도록 제조되는 것을 특징으로 하는 저저항 세라믹 PTC 소자 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.

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