초록 ▼

본 발명은 칼라필터용 저반사 매트릭스 블랭크 제조방법에 관한 것으로 투명 유리기판과 차광막 사이에 증착시키는 산화크롬막을 금속 크롬과 크롬 산화물의 혼합물 타겟을 이용하여 DC 스퍼터링법으로 형성시키므로써 기존의 반응성 스퍼터링에 비해 성막속도 및 막두께 균일성을 향상시킬 수 있고, 또한 반응성 가스(산소)를 도입, 벤트(Vent)시키기 위해서 소요되어지는 시간을 생략하고 동일 챔버내에서 산화물 타겟과 금속 타겟을 근접하게 설치할 수 있게 되어 인 라인(In Line) 스퍼터에서 모터속도 조절에 의해 간단하게 이중막 생성을 할 수

본 발명은 칼라필터용 저반사 매트릭스 블랭크 제조방법에 관한 것으로 투명 유리기판과 차광막 사이에 증착시키는 산화크롬막을 금속 크롬과 크롬 산화물의 혼합물 타겟을 이용하여 DC 스퍼터링법으로 형성시키므로써 기존의 반응성 스퍼터링에 비해 성막속도 및 막두께 균일성을 향상시킬 수 있고, 또한 반응성 가스(산소)를 도입, 벤트(Vent)시키기 위해서 소요되어지는 시간을 생략하고 동일 챔버내에서 산화물 타겟과 금속 타겟을 근접하게 설치할 수 있게 되어 인 라인(In Line) 스퍼터에서 모터속도 조절에 의해 간단하게 이중막 생성을 할 수 있게 된다. 뿐만 아니라 타겟 전체를 산화물로 하지 않고 금속과의 혼합물로 형성하므로써 DC 스퍼터의 경우 전원부의 개조없이도 본 공정을 적용할 수 있는 고신뢰성의 저반사 매트릭스 블랭크를 실현 할 수 있게 된다.

대표청구항

금속 크롬분말과 산화크롬 분말을 1:1로 혼합·성형·소결하여 타겟을 형성하는 공정과, 상기 두 분말의 혼합비를 얻고자 하는 산화막의 조성에 따라 변화시켜 금속분말이 타겟 전체에 걸쳐서 서로 연결되도록 한 뒤 DC 마그네트론 스퍼터 또는 RF 스퍼터를 이용하여 기판상에 산화막을 형성하는 공정과, 상기 산화막상에 스퍼터링법으로 크롬막을 형성하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 저반사 매트릭스 블랭크 제조방법.

금속 크롬분말과 산화크롬 분말을 1:1로 혼합·성형·소결하여 타겟을 형성하는 공정과, 상기 두 분말의 혼합비를 얻고자 하는 산화막의 조성에 따라 변화시켜 금속분말이 타겟 전체에 걸쳐서 서로 연결되도록 한 뒤 DC 마그네트론 스퍼터 또는 RF 스퍼터를 이용하여 기판상에 산화막을 형성하는 공정과, 상기 산화막상에 스퍼터링법으로 크롬막을 형성하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 저반사 매트릭스 블랭크 제조방법.