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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-1994-0015158 (1994-06-29) |
| 공개번호 | 10-1995-0001979 (1995-01-04) |
| 등록번호 | 10-0154559-0000 (1998-07-10) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1019940015158 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (1994-06-29) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 소멸 |
레티클이나 포토마스크등의 회로패턴상에 부착한 이물등의 결함을 검출하는 결함검사장치로서, 레티클등의 회로패턴상에 부착한 미세한 이물등의 결함을 간단한 구성으로 용이하게 회로패턴에서 분리하여 안정하게 검출하기 위해, 차광막의 회로패턴 및 광반투과막 또는 광투과막으로 형성된 패턴을 갖는 투명 또는 반투명의 기판에 대해 표면용 조명계에 의해 표면용 조명광을 기판의 표면에 비스듬한 방향에서 조사해서 기판의 표면 및 기판상에 형성된 패턴의 표면에서 산란 반사하는 산란반사광을 집광하고, 이면용 조명계에 의해 이면용 조명광을 기판의 이면에 비스듬
차광막의 패턴 및 광반투과막 또는 광투과막으로 형성된 패턴을 갖는 투명 또는 반투명의 기판에 대해서, 표면용 조명계에 의해서 표면용 조명광을 상기 기판의 표면에 비스듬한 방향에서 조사해서 기판의 표면 및 기판상에 형성된 패턴의 표면에서 산란 반사하는 산란방사광을 집광하고, 이면용 조명계에 의해 이면용 조명광을 상기 기판의 이면에 비스듬한 방향에서 조사해서 기판 및 기판상에 형성된 패턴을 투과해서 회절하는 투과회절광을 집광하고, 상기 집광된 산란반사광 및 투과회절광중, 푸리에 변환면상에 마련한 공간필터에 의해 패턴으로 부터의 반사산란
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