IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 |
10-1995-0008925
(1995-04-17)
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공개번호 |
10-1995-0032044
(1995-12-20)
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등록번호 |
10-0375082-0000
(2003-02-24)
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1019950008925
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발명자
/ 주소 |
- 클라우스울프
/ 독일연방공화국*****크레펠트리하르트-슈트라우쓰-슈트라쎄**
- 카스파르할렌베르거
/ 독일연방공화국*****레버쿠젠빈센트-반-고흐-슈트라쎄**
- 하인리히슈테우데
/ 독일연방공화국*****레버쿠젠암텔레그라프**
- 쿠르트-페터모이러
/ 벨기에왕국베-* 안트베르펜로데슈트라아트**
- 토니반오쎌라에
/ 벨기에왕국베****셍트-니클라아스/벨셀투인라안**
- 위르겐힌쯔
/ 벨기에왕국베-****브라쓰차아트프릴린글라이***
- 프랭크쿠아에이하겐스
/ 벨기에왕국베-****모르트셀오실라이**
- 요한바에스
/ 벨기에왕국베-****칼틈호우트투르쯔바아르틀라안**
- 이그나스후프트만
/ 벨기에왕국베-****크루이베크폴더스트라아트***
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출원인 / 주소 |
- 바이엘 악티엔게젤샤프트 / 독일 데-***** 레버쿠센
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대리인 / 주소 |
-
이병호
(LEE, Byong Ho)
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서울 종로구 수송동 ** 번지코리안리빌딩*층(법무법인중앙)
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심사청구여부 |
있음 (1999-12-23) |
심사진행상태 |
등록결정(심사전치후) |
법적상태 |
소멸 |
초록
본 발명은p,p-1 비스페놀 A를 용융상태로부터 증류시켜 정제하는 방법에 관한 것이다. 이로부터 p,p- 수득한 비스페놀 A 용융물은 고도의 열 안정성, 저장 안정성 및 착색 안정성이 있으며, 고비점 성분이 없고, 표면 활성제, 증류되지 않은 물질, 염, 산 또는 중합체 성분과 황 함유 성분을 전혀 함유하지 않으며, o,p-BPA 및 페놀이 제거 되었고, 저비점 성분은 극미량이 검출될 뿐이다.
대표청구항
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(1) 통상적인 BPA제조공정으로 제조하거나 BPA의 플레이크, 분말 또는 팰릿을 용융시켜 제조하며, p,p- 비스페놀 A의 함량이 90%이상이고 페놀 함량이 10%미만인 비스페놀 A 용융물을 이덕트(educt)로서 사용하여 증류시키고, (b) 이러한 용융물의 증류과정은 안정화제를 가하지 않고 불활성 조건하에 수행하며, (c) 증류는 p,p- 비스페놀 분해를 통한 손실이 0.5%미만으로 되도록 수행하고, (d)증류는 220내지 250℃의 온도에서 수행하며, (e)증류는 1내지 50mbar의 진공하에 수행하고, (f)증류는 2단계로
(1) 통상적인 BPA제조공정으로 제조하거나 BPA의 플레이크, 분말 또는 팰릿을 용융시켜 제조하며, p,p- 비스페놀 A의 함량이 90%이상이고 페놀 함량이 10%미만인 비스페놀 A 용융물을 이덕트(educt)로서 사용하여 증류시키고, (b) 이러한 용융물의 증류과정은 안정화제를 가하지 않고 불활성 조건하에 수행하며, (c) 증류는 p,p- 비스페놀 분해를 통한 손실이 0.5%미만으로 되도록 수행하고, (d)증류는 220내지 250℃의 온도에서 수행하며, (e)증류는 1내지 50mbar의 진공하에 수행하고, (f)증류는 2단계로 수행하며, (g)우선 (g,1)Mol 402 인단 및 트리스페놀과 같은 고비점 성분을 완전히 제거하고, 이어서 (g,2) 금속 분말, 금속 이온 및 미량의 염, 미량의 산, 촉매의 중합체성 잔사, 촉매의 올리고머성 잔사 및 기타 비증류성 고분자량 화합물을 완전히 제거한 다음, (g,3)표면 활성 화합물을 완전히 제거하고 (g,4) o,p-BPA, 알킬페놀, 미량의 페놀 및 미량의 크로만과 같은 저비점 성분 이외에도 머캅토프로피온산과 같은 황함유 저비점 성분을 제거하거나 크게 감소시키며, 이어서(g,5) 저비점 성분, 페놀 및 고비점 성분을 함유하며, p,p- 비스페놀 A함량이 92%를 초과하는 농축 용융 용액을 재순환 스트림으로서 공정으로 귀환시키고, (h)저비점 성분을 함유하는 농축BPA 용융 용액5% 이하와 고비점 성분을 함유하는 농축 BPA용융 용액 10%이하를 공정으로 이송하며, (i) 증류된 p,p-BPA와 혼합된 이송 생성물에 함유된 저비점 성분과 고비점 성분를 재순환 스트림으로부터 공정으로 귀환 시키고 재배열한 다음 부분적으로 회수하며, (j)증류된 p,p-비스페놀A를 기타 물질이 제거된 안정한 저부 생성물로서 통상적인 방법으로 후처리함을 특징으로 하는, 초순수 비스페놀A의 제조방법.
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