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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1995-0029320 (1995-09-07) |
공개번호 | 10-1997-0017900 (1997-04-30) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950029320 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
웨이퍼상에 마련되는 감광액의 표면을 180° 회전시키고 그 하부에서 현상과 세정을 실시하는 감광액 현상장치에 관하여 개시한다. 본 발명의 감광액 현상장치는 웨이퍼 상에 형성된 감광액의 현상장치에 있어서, 상기 웨이퍼의 상부 표면을 180도 반전, 승강시켜 현상용액이 담겨진 배쓰에 상기 웨이퍼를 강하, 침수하여 감광된 부위를 용해시킨 후 일정 높이로 웨이퍼를 상승할 수 있는 로봇트암과, 상기 배쓰의 일측면에 상기 웨이퍼의 반전된 감광액 표면을 세정하는 세정액 분사장치를 포함한다. 본 발명에 의하면, 현상액의 제거시 감광액이 있는 웨이
웨이퍼 상에 형성된 감광액의 현상장치에 있어서, 상기 웨이퍼의 상부 표면을 180도 반전, 승강시켜 현상용액이 담겨진 배쓰에 상기 웨이퍼를 강하, 침수하여 감광된 부위를 용해시킨 후 일정 높이로 웨이퍼를 상승할 수 있는 로봇트암과, 상기 배쓰의 일측면에 상기 웨이퍼의 반전된 감광액 표면을 세정하는 세정액 분사장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광액 현상장치.
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