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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1995-0037778 (1995-10-28) |
공개번호 | 10-1997-0023616 (1997-05-30) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950037778 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
반도체 생산 계획 수립 방법을 공개한다. 바이닝이 발생하는 반도체 생산 공정에 대한 생산 계획을 수립하는 방법에 있어서, 적어도 바이닝 데이타를 포함하는 기본 데이타를 수집하는 과정과, 상기 바이닝 발생하는 생산 공정에 대해서는 LP 시스템을 적용하고, 바이닝이 발행하지 않는 생산 공정에 대해서는 MRP 시스템을 적용하는 과정, 및 상기 LP 시스템 및/또는 MRP 시스템을 적용하는 과정을 통해 발생된 데이타를 통해 계획 리포트를 작성하는 과정을 구비한 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 바이닝 비율을 정확히 반영하여 생산 계
바이닝이 발생하는 반도체 생산 공정에 대하여 생산 계획을 수립하는 방법에 있어서, 적어도 바이닝 데이타를 포함하는 기본 데이타를 수집하는 과정; 상기 바이닝이 발생하는 생산 공정에 대해서는 LP 시스템을 적용하고, 바이닝이 발행하지 않는 생산 공정에 대해서는 MRP 시스템을 적용하는 과정; 및 상기 LP 시스템 및/또는 MRP 시스템을 적용하는 과정을 통해 발생된 데이타를 통해 계획 리포트를 작성하는 과정을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 생산 계획 수립 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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