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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1995-0039209 (1995-11-01) |
공개번호 | 10-1997-0030410 (1997-06-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950039209 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1995-11-01) |
심사진행상태 | 포기(등록결정전 포기서제출) |
법적상태 | 포기 |
본 발명은 반도체 장치의 제조 공정중 포토리소그라피 공정에서 웨이퍼의 표면에 폴리머의 형태로 잔류하게 되는 현상액의 잔류물을 제거하는 방법 및 그 세정장치에 관한 것으로, 웨이퍼의 표면에 잔류하는 폴리머 형태의 현상액을 제거하기 위한 혼합용액을 약품조에 담고, 상기 웨이퍼를 혼합용액 내에 넣는 공정과; 상기 약품조 내로 고주파를 전달시켜 상기 약품조를 진동시키는 공정과; 상기 약품조에 물을 공급하여 현상액이 제거된 상기 웨이퍼의 표면의 혼합용액 잔류물을 씻어내는 공정과; 혼합용액의 잔류물을 씻어낸 상기 웨이퍼를 건조기에 넣고 고속회
반도체 장치의 세정 장치에 있어서, 웨이퍼(14) 표면의 현상액의 잔류물을 제거하기 위한 혼합용액(12)을 수용하는 약품조(10)와; 고주파를 발생하는 발진기(24)와; 상기 약품조(10)의 하부에 설치되어 상기 약품조(10) 내의 웨이퍼(14)로 고주파에 의한 진동을 전달하는 진동판(22)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 세정 장치.
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