초록 ▼

본 발명은 반도체장치의 제조에 사용되는 감광액의 파티클제거방법 및 장치에 관한 것으로서, 그 방법은 상기 감광액을 수용하는 보관용 용기내에서 상기 감광액을 유동상태로 유지되도록 하고 그리고 그 장치는 감광액을 수용하는 보관용 용기(10)와; 상기 용기(10)내에 설치된 자석교반용 바(14)와; 상기 용기(10)의 둘레에 설치되어 있고 그리고 상기 자석교반용(14)를 회전시키는 자석교반기(18)를 포함한다. 본 발명의 방법 및 장치에 따르면, 감광액이 용기내에서 장시간동안 보관하여도 그 감광액내에 있는 미세파티클의 주위에 화합물들이

본 발명은 반도체장치의 제조에 사용되는 감광액의 파티클제거방법 및 장치에 관한 것으로서, 그 방법은 상기 감광액을 수용하는 보관용 용기내에서 상기 감광액을 유동상태로 유지되도록 하고 그리고 그 장치는 감광액을 수용하는 보관용 용기(10)와; 상기 용기(10)내에 설치된 자석교반용 바(14)와; 상기 용기(10)의 둘레에 설치되어 있고 그리고 상기 자석교반용(14)를 회전시키는 자석교반기(18)를 포함한다. 본 발명의 방법 및 장치에 따르면, 감광액이 용기내에서 장시간동안 보관하여도 그 감광액내에 있는 미세파티클의 주위에 화합물들이 모여들어 결정화되는 것을 방지할 수 있다.

대표청구항

반도체장치의 제조에 사용되는 감광액의 파티클제거방법에 있어서, 상기 감광액을 수용하는 보관용 용기내에서 상기 감광액을 유동상태로 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 감광액의 파티클제거방법.

반도체장치의 제조에 사용되는 감광액의 파티클제거방법에 있어서, 상기 감광액을 수용하는 보관용 용기내에서 상기 감광액을 유동상태로 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 감광액의 파티클제거방법.