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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1995-0046831 (1995-12-05) |
공개번호 | 10-1997-0043091 (1997-07-26) |
등록번호 | 10-0256338-0000 (2000-02-22) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950046831 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1997-08-27) |
심사진행상태 | 등록결정(심사전치후) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 입도분포가 넓은 분철광석을 환원하는 유동층식 환원장치에 관한 것으로써, 철광석의 환원로내 평균체류시간이 광석 입경별로 조절되어 환원효율이 향상됨과 동시에 환원로내 가스의 체류시간이 증가되어 가스이용율이 향상되는 분철광석의 유동층식 환원장치를 제공하고자 하는데, 그 목적이 있다. 본 발명은 미립철광석이 배출되는 상부배출구 및 대립 철광석이 배출되는 하부 배출구가 형성되고, 그리고 그 하부내에 가스분산판이 구비되어 있는 유동층식 환원로의 하부로부터 환원가스를 공급하여 철광석 공급구를 통해 유입되는 분립상의 철광석을 유동화 시
미립철광석이 배출되는 상부배출구(113) 및 대립 철광석이 배출되는 하부 배출구(114)가 형서오디고, 그리고 그 하부내에 가스분산판(21a)이 구비되어 있는 유동층식 환원로의 하부로부터 환원가스를 공급하여 철광석 공급구(112)를 통해 유입되는 분립상의 철광석을 유동화시키고 유동층식 환원로의 상부로부터 환원가스에 동반되어 순환관(115)을 통해 배출된 극미립철광석을 입자포집장치에 의해 환원가스로부터 분리하여 극미립철광석 공급관(121)을 경유하여 유동층식 환원로내에 공급되도록 하여 입도분포가 넓은 분철광석을 환원하도록 구성되는 분
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