초록 ▼

본 발명은 텔레비젼의 새도우마스크나 반도체용 리드 프레임을 제조하기 위해서 니켈-철 합금을 합금을 염화제2철 수용액으로 에칭 처리시에 얻어지는 염화제2철 에칭 폐액으로부터 니켈 성분을 효율적으로 제거시키는 연속공정에 의한 염화제2철 수용액의 재생방법에 관한 것이다.본 발명은 염화제1철의 에칭 폐액을 염화제1철 수용액으로 환원시킴과 동시에 또는 환원시킨 후 수용액 내에 존재하는 니켈을 제거함에 있어서, 마지막 니켈 제거 공정(n차)에는 새로운 철분을 첨가하고, 마지막 니켈 제거 공정(n차) 이전까지의 니켈 제거 공정(m차)에는 앞 로

본 발명은 텔레비젼의 새도우마스크나 반도체용 리드 프레임을 제조하기 위해서 니켈-철 합금을 합금을 염화제2철 수용액으로 에칭 처리시에 얻어지는 염화제2철 에칭 폐액으로부터 니켈 성분을 효율적으로 제거시키는 연속공정에 의한 염화제2철 수용액의 재생방법에 관한 것이다.본 발명은 염화제1철의 에칭 폐액을 염화제1철 수용액으로 환원시킴과 동시에 또는 환원시킨 후 수용액 내에 존재하는 니켈을 제거함에 있어서, 마지막 니켈 제거 공정(n차)에는 새로운 철분을 첨가하고, 마지막 니켈 제거 공정(n차) 이전까지의 니켈 제거 공정(m차)에는 앞 로트(Lot) 염화제1철 수용액의 니켈 제거 공정(m+1차)에서 투입된 철분중 니켈 제거 반응에 참여하지 못하고 표면에 니켈 성분이 코팅된 철분(이하 미반응 철분이라고 한다)을 볼밀 방식, 산처리 방식 또는 초음파 주사 방식으로 재생시킨 철분을 사용한다.본 발명은 적은 양의 철분 사용으로도 염화제1철 수용액내 니켈 성분을 효율적으로 제거할 수 있다.

대표청구항

염화제2철의 에칭 폐액을 염화제1철 수용액으로 환원시킨 후 또는 환원시킴과 동시에 수용액 내에 존재하는 니켈을 제거함에 있어서, 마지막 니켈 제거 공정(n차)이전까지의 니켈 제거 공정(m차)에는 앞 로트(Lot) 염화제1철 수용액의 니켈 제거 공정(m+1차)에서 형성된 미반응 철분을 재생 처리한 철분을 첨가하고, 마지막 니켈 제거 공정(n차)에는 새로운 철분을 첨가하여 수용액내 니켈을 제거함을 특징으로 하는 연속공정에 의한 염화제2철 수용액의 재생방법.

염화제2철의 에칭 폐액을 염화제1철 수용액으로 환원시킨 후 또는 환원시킴과 동시에 수용액 내에 존재하는 니켈을 제거함에 있어서, 마지막 니켈 제거 공정(n차)이전까지의 니켈 제거 공정(m차)에는 앞 로트(Lot) 염화제1철 수용액의 니켈 제거 공정(m+1차)에서 형성된 미반응 철분을 재생 처리한 철분을 첨가하고, 마지막 니켈 제거 공정(n차)에는 새로운 철분을 첨가하여 수용액내 니켈을 제거함을 특징으로 하는 연속공정에 의한 염화제2철 수용액의 재생방법.