초록 ▼

부동태화현상이 생기기 쉬운 철ㆍ니켈합금이나 스텐레스강계합금으로 이루어지는 금속박판의 피에칭면에 피착된 산화피막이나 레지스트잔막을 피에칭면에서 안정하고도 확실하게 제거할 수 있는 표면처리방법을 제공한다. 표면처리조(20) 내의 표면처리액(18) 속에서 금속박판(10)을 전위적으로 보동태영역에서 수소발생영역으로 음분극시켜 표면처리한다. 표면처리조 내의 표면처리액의 일부를 채취하여 전해조에 수용하고, 금속박판으로부터 베어낸 금속박판편을 전해조 내의 표면처리액 중에 침지시켜 금속박판편과 대극과의 사이에 전압을 인가하여 전위주사하고, 얻어진

부동태화현상이 생기기 쉬운 철ㆍ니켈합금이나 스텐레스강계합금으로 이루어지는 금속박판의 피에칭면에 피착된 산화피막이나 레지스트잔막을 피에칭면에서 안정하고도 확실하게 제거할 수 있는 표면처리방법을 제공한다. 표면처리조(20) 내의 표면처리액(18) 속에서 금속박판(10)을 전위적으로 보동태영역에서 수소발생영역으로 음분극시켜 표면처리한다. 표면처리조 내의 표면처리액의 일부를 채취하여 전해조에 수용하고, 금속박판으로부터 베어낸 금속박판편을 전해조 내의 표면처리액 중에 침지시켜 금속박판편과 대극과의 사이에 전압을 인가하여 전위주사하고, 얻어진 정위-전류곡선이 전위-0.2V~-0.7V의 범위에서 플랫영역을 가지지 않을 때에 표면처리액의 조성이 부적절하다고 판정하여 표면처리조 내의 표면처리액의 조성을 조정한다.

대표청구항 ▼

현상처리된 레지스트막이 피착된 철ㆍ니켈합금 또는 스텐레스강계합금으로 이루어지는 금속박판을 에칭 처리하기 전에, 관산화수소를 함유하는 산의 희박용액으로 이루어지고 표면처리조 내에 수용된 표면처리액 중에 상기 금속박판을 첨지시켜, 그 피에칭면을 피복하고 있는 산화피막이나 레지스트잔막을 피에칭면에서 제거하여 표면처리하는 금속박판의 에칭에 있어서의 표면처리방법에 있어서, 상기 표면처리조 내의 표면처리액 속에서 상기 금속박판을 전위적으로 부동태영역에서 수소발생영역으로 음분극시켜 표면처리를 하도록 하고, 표면처리를 하기 전 또는 표면처리 중에

현상처리된 레지스트막이 피착된 철ㆍ니켈합금 또는 스텐레스강계합금으로 이루어지는 금속박판을 에칭 처리하기 전에, 관산화수소를 함유하는 산의 희박용액으로 이루어지고 표면처리조 내에 수용된 표면처리액 중에 상기 금속박판을 첨지시켜, 그 피에칭면을 피복하고 있는 산화피막이나 레지스트잔막을 피에칭면에서 제거하여 표면처리하는 금속박판의 에칭에 있어서의 표면처리방법에 있어서, 상기 표면처리조 내의 표면처리액 속에서 상기 금속박판을 전위적으로 부동태영역에서 수소발생영역으로 음분극시켜 표면처리를 하도록 하고, 표면처리를 하기 전 또는 표면처리 중에 수시로 상기 표면처리조 내에 수용된 표면처리액의 일부를 채취하여 대극이 설치된 전해조에 그 표면처리액을 수영함과 동시에, 상기 금속판의 일부를 절라내어 그 금소각판편을 상기 저해조 내에 수용된 표면처리액 중에 침지시키고 상가 금속박편과 상기 대극과의 사이에 전압을 인가하여 전위주사하는 것에 의해 전위-전류곡선을 얻고, 그 전위-전류곡선이 상기 금속박판편의 전위가 -0.2V~-0.7V(vs, Ag/AgCl)의 범위에 있어서 플랫영역을 가지는지 여부를 조사하고, 상기 전위-전류곡선이 상기 플랫영역을 가질 때에 표면처리액의 조성이 적절하다고 판정하고, 그렇지 않을 때에 표면처리액의 조성이 부적절하다고 판정하여 상기 표면처리조 내의 표면처리액의 조성을 조성하는 것을 특징으로 하는 금속판의 에칭에 있어서의 표면처리방법.