IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 |
10-1996-0704314
(1996-08-08)
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공개번호 |
10-1997-0701343
(1997-03-17)
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등록번호 |
10-0367240-0000
(2002-12-23)
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국제출원번호 |
PCT/US1995/001777
(1995-02-08)
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국제공개번호 |
WO1995022048
(1995-08-17)
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번역문제출일자 |
1996-08-08
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1019960704314
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발명자
/ 주소 |
- 제프리 에이. 벳트처
/ 미국 미네소타주 ***** 팔콘 하이츠 아로나 스트리트
- 래니 엘. 하크라우
/ 미국 미네소타주 ***** 스틸워터 아이스로즈 레인 ****
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출원인 / 주소 |
- 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니 / 미합중국 *****-**** 미네소타주 세인트 폴 피.오. 박스 ***** *엠 센터
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대리인 / 주소 |
-
김영;
장수길
(KIM, Young)
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서울시 종로구 신문로*가 ***번지 흥국생명빌딩 *층(김.장법률사무소);
서울 종로구 내자동 세양빌딩 (김.장법률사무소)
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심사청구여부 |
있음 (2000-02-08) |
심사진행상태 |
등록결정(일반) |
법적상태 |
소멸 |
초록
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형광 스펙트럼 측정기는 견본의 기능성 혼합물에 함유된 검사용 형광물질의 형광 특성을 측정한다. 형광 스펙트럼 측정기는 견본에 함유된 하나 또는 그 이상의 형광물질을 자극하기에 적합한 광선을 방사한다. 자극을 받는 하나 또는 그 이상의 형광물질은 방출 파장 스펙트럼 이내에서 형광을 방출한다. 방출 강도의 급격한 변화가 발생하는 좁은 파장 범위를 가진 형광물질을 검사용 형광물질로 선택한다. 형광 스펙트럼 측정기는 이 좁은 파장 범위내의 강도 변화를 검출해 강도 곡선에 대한 도함수 산출을 수행한다. 형광 스펙트럼 측정기는 특정 형광물질을
형광 스펙트럼 측정기는 견본의 기능성 혼합물에 함유된 검사용 형광물질의 형광 특성을 측정한다. 형광 스펙트럼 측정기는 견본에 함유된 하나 또는 그 이상의 형광물질을 자극하기에 적합한 광선을 방사한다. 자극을 받는 하나 또는 그 이상의 형광물질은 방출 파장 스펙트럼 이내에서 형광을 방출한다. 방출 강도의 급격한 변화가 발생하는 좁은 파장 범위를 가진 형광물질을 검사용 형광물질로 선택한다. 형광 스펙트럼 측정기는 이 좁은 파장 범위내의 강도 변화를 검출해 강도 곡선에 대한 도함수 산출을 수행한다. 형광 스펙트럼 측정기는 특정 형광물질을 다른 형광물질 또는 배경의 형광 간섭으로부터 구별할 수 있다.
대표청구항
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파장범위 A의 복사 에너지를 흡수하고, 방출 파장 범위 B의 복사 에너지를 방출하며, 상기 방출 파장 범위 B내에 보다 좁은 파장 범위 C를 포함해, 방출되는 복사 에너지의 양이 범위 C 바로 아래에 있는 범위 B의 방출량으로부터 범위 C의 방출량으로 급격하게 변화하도록 하는 효과적인 양의 형광물질을 기능성 코딩에 혼합하는 단계, 상기 파장 범위 A의 복사 에너지로 상기 형광물질을 자극하는 단계, 상기 기능성 코팅이 방출하는 파장 범위 B 및 상기 내포된 파장 범위 C의 복사 에너지 방출을 검출하는 단계, 상기 검출된 파장 범위
파장범위 A의 복사 에너지를 흡수하고, 방출 파장 범위 B의 복사 에너지를 방출하며, 상기 방출 파장 범위 B내에 보다 좁은 파장 범위 C를 포함해, 방출되는 복사 에너지의 양이 범위 C 바로 아래에 있는 범위 B의 방출량으로부터 범위 C의 방출량으로 급격하게 변화하도록 하는 효과적인 양의 형광물질을 기능성 코딩에 혼합하는 단계, 상기 파장 범위 A의 복사 에너지로 상기 형광물질을 자극하는 단계, 상기 기능성 코팅이 방출하는 파장 범위 B 및 상기 내포된 파장 범위 C의 복사 에너지 방출을 검출하는 단계, 상기 검출된 파장 범위 C로부터 도함수 계산을 통해 상기 기능성 코팅의 복사 에너지의 변화의 미분값을 얻는 단계를 포함하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 기저재가 상기 방출 파장 범위 B와 거의 동일한 파장 범위에서 형광을 방출하도록 하는 기저재의 가능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 파장 범위 C가 약 15 나노미터 미만이 되도록 기저재의 가능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제3항에 있어서, 상기 파장 범위가 약 6 나노미터 미만이 되도록 하며, 파장 범위 C의 복사 에너지 방출 변화량이 상기 파장 범위 C의 바로 아래에서 측정한 상기 파장 범위 B의 총방출의 2% 정도 변화하도록 하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제3항에 있어서, 상기 파장 범위 C가 약 3 나노미터 미만이 되도록 하며, 파장 범위 C의 복사 에너지 방출 변화량이 상기 파장 범위 C의 바로 아래에서 측정한 상기 파장 범위 B의 총방출의 1% 정도 변화하도록 하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법. 제3항에 있어서, 파장 범위가 약 15 나노미터 미만이 되도록 하며, 파장 범위 C의 복사 에너지 방출 변화량이 상기 파장 범위 C의 바로 아래에서 측정한 상기 파장 범위 B의 총방출의 5% 정도 변화하도록 하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 형광물질이 방향성 혼합물이 되도록 하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제7항에 있어서, 상기 방향성 혼합물이 플루오린 혼합물이 되도록 하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 수행 단계는 상기 파장 범위 C의 복사 에너지 방출 강도의 1차 도함수 산출을 포함하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제9항에 있어서, 상기 수행 단계에 상기 파장 범위 C의 복사 에너지 방출 강도의 2차 도함수 산출을 추가로 포함시키는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 좁은 파장 C에서 두 개의 물연속적인 파장을 샘플링해 상기 파장 범위 C내의 최대 및 최소 방출 강도 최대 및 최소값을 이루도록 하며, 2지점 직선 근사치를 얻는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 파장 범위 C의 스펙트럼을 스캔하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정방법.제12항에 있어서, 상기 파장 범위 C의 스펙트럼을 스캔 단계에 협폭 포트 쵸퍼를 사용하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제12항에 있어서, 상기 파장 범위 C의 스펙트럼을 스캔하는 단계는 광폭 포트 쵸퍼의 사용을 포함하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제12항에 있어서, 상기 파장 범위 C의 스펙트럼을 스캔하는 단계는 감광 선형 배열의 사용을 포함하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 기능성 코팅을 보호용 코팅, 접착 코팅, 초벌 코팅, 저 접착성 후면 코팅, 감광 이미징 코팅, 릴리스 코팅, 절연 코팅 중 선택 단계를 포함한 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 형광물질이 상기 기능성 코팅 혼합물에 화학적으로 결합되는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 형광물질이 상기 기능성 코팅 혼합물에 용해되는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 형광물질이 기능성 코팅 혼합물에 분산되는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 상기 도함수 산출값이 상기 기능성 코팅의 최소한 한가지의 특성과 상관관계를 갖도록 하는 단계를 더 포함하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제20항에 있어서, 상기 기능성 코팅의 특성을 두께, 무게, 균일성, 결합 및 기타 표지 중에서 선택하는 단계를 더 포함하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.제1항에 있어서, 범위 A의 중간 평균 파장이 범위 B의 중간 평균 파장보다 낮도록 하는 기저재의 기능성 코팅의 형광 방출 값 측정 방법.형광 방출 강도가 급격히 변화하는 좁은 형광 방출 파장 범위를 내포한 방출 파장 범위를 가지고, 형광물질을 함유하는 기능성 코팅의 형광 방출 강도를 측정하는 형광물질 수단, 상기 형광물질의 흡수 파장 범위 내의 복사 에너지가 상기 형광물질을 자극할 때 이 내포된 좁은 파장 범위의 형광 방출의 강도를 검출하는, 상기 형광물질의 상기 내포된 좁은 형광 파장 범위에 조정된 조정 가능 검출 수단, 상기 내포된 좁은 파장 범위의 형광 방출의 1차 도함수 산출을 수행하는 수단을 포함하며, 상기 내포된 좁은 형광물질 파장 범위의 상기 형광 방출 변화를 분석해 값을 얻는 분석 수단 및, 상기 형광 방출 강도 분석에서 얻은 값과 상기 기능성 코팅의 물리적 특성과의 상호 관계를 분석하는 상관 분석 수단을 포함하는 흡수 파장 범위와 방출 파장 범위가 이미 알려진 기저재의 전체 또는 일부의 코팅된 기능성 혼합물의 형광 방출을 검출할 수 있는 스펙트럼 측정 장치.제23항에 있어서, 상기 내포된 좁은 방출 파장 범위가 15 나노미터 이하인 스펙트럼 측정 장치. 제23항에 있어서, 상기 내포된 좁은 파장 범위가 약 6나노미터 미만이며, 상기 내포된 좁은 파장 범위 바로 아래의 파장에서 상기 총 형광 방출을 측정시, 상기 총 방출량의 2%정도를 변화시키도록 하는 스펙트럼 측정 장치.제23항에 있어서, 상기 내포된 좁은 파장 범위가 약 3 나노미터 미만이며, 상기 내포된 좁은 파장 범위 바로 아래의 파장에서 상기 총 형광 방출을 측정시, 상기 총 방출량의 1% 정도를 변화시키도록 하는 스펙트럼 측정장치.제23항에 있어서, 상기 내포된 좁은 파장 범위가 약 15 나노미터 미만이며, 상기 내포된 좁은 파장 범위 바로 아래의 파장에서 상기 총 형광 방출을 측정시, 상기 총 발출량의 5% 정도를 변화시키도록 하는 스펙트럼 측정 장치.제23항에 있어서, 상기 분석 수단은 상기 내포된 좁은 형광 방출 파장 범위의 형광 방출의 2차 도함수 산출을 수행할 수 있는 포함하는 스펙트럼 측정 장치. .제23항에 있어서, 상기 내포된 좁은 파장 범위내에서 두 개의 불연속적 지점을 샘플링해 방출 최소 및 최대치를 이루도록 하며, 2지점 직선 근사치 산출이 가능하게 하는 스펙트럼 측정 장치.제23항에 있어서, 상기 조정가능한 검출 수단이 협폭 포트 쵸퍼로 구성된 장치.제23항에 있어서, 상기 조정가능한 검출 수단이 광폭 포트 쵸퍼로 구성된 스펙트럼 측정 장치.제23항에 있어서, 상기 조절가능한 검출 수단이 광폭 포트 쵸퍼로 구성된 스펙트럼 측정 장치.제23항에 있어서, 상기 기능성 코티의 물리적 특성을 두께, 무게 , 균일성, 결합 및 기타 표지 중 선택할 수 있는 스펙트럼 측정 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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