IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/공개특허
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 |
10-1997-0025302
(1997-06-18)
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공개번호 |
10-1998-0002165
(1998-03-30)
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1019970025302
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발명자
/ 주소 |
- 헤르드 칼-요세프
/ 독일 오덴탈 ***** 암 가르텐펠트 **
- 사이트마서 클라우스
/ 독일 크리프텔 ***** 로버트-슈만-링 **
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출원인 / 주소 |
- 디스타르 텍스틸파르벤 게엠베하 운트 캄파니 도이취란트 카게 / 독일 데 ***** 프랑크푸르트 암 마인
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대리인 / 주소 |
-
김창세;
장성구
(KIM, Chang Se)
-
서울 서초구 양재동 ***-* 트러스트타워**층(제일광장특허법률사무소);
서울시 서초구 양재동 ***-* 트러스트타워**층(제일광장특허법률사무소)
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심사진행상태 |
취하(심사미청구) |
법적상태 |
취하 |
초록
▼
본 발명은 하기 화학식(1)의 신규한 알루미륨 프탈로시아닌 반응성 염료에 관한 것이다 : 상기 식에서 X는 Cl또는 OH이고, Z는 비닐 또는 식 -CH2CH2-Y의 기이고, 이 때 Y는 알칼리 조건하에 제거될 수 있는 치환체 또는 설포, 하이드록실 또는 -NR-T기이고, 이 때 T는 섬유반응성 헤테로환상 라디칼이고, R은 수소; C1-C6-알킬; 또는 OH, SO3M, OSO3M, COOM, OCH3 또는 OC2H5로 치환된 C1-C6-알킬임이고, a는 수 0 내지 3이고, b는 수 0 내지 4이고, c는 수 0.5 내지 4이고,
본 발명은 하기 화학식(1)의 신규한 알루미륨 프탈로시아닌 반응성 염료에 관한 것이다 : 상기 식에서 X는 Cl또는 OH이고, Z는 비닐 또는 식 -CH2CH2-Y의 기이고, 이 때 Y는 알칼리 조건하에 제거될 수 있는 치환체 또는 설포, 하이드록실 또는 -NR-T기이고, 이 때 T는 섬유반응성 헤테로환상 라디칼이고, R은 수소; C1-C6-알킬; 또는 OH, SO3M, OSO3M, COOM, OCH3 또는 OC2H5로 치환된 C1-C6-알킬임이고, a는 수 0 내지 3이고, b는 수 0 내지 4이고, c는 수 0.5 내지 4이고, M은 수소, 알칼리 금속 또는 치환되거나 치환되지 않은 암모늄 이온이고, R1과 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C6-알킬; 화학식 OH, SO3M 또는 OSO3M 중 1개 또는 2개의 라디칼로 치환된 C1-C6-알킬; 페닐; OH, SO3M 또는 COOM 중 1개 내지 3개의 라디칼로 치환된 페닐이거나; 또는 하기 화학식(2), 화학식(3) 또는 화학식(4)의 라디칼(이 때, n은 수 0 내지 3이고, m은 수 0 또는 1이고, n과 m의 합은 1,2,3 또는 4이고, x는 정수 2 내지 6이고, y는 수 0 내지 3이고, W는 C1-C6-알킬렌, -(CH2)2-O-(CH2)2-또는 화학결합이고, Y1은 -CH=CH2, -CH2CH2Cl, -CH2CH2OH 또는 -CH2CH2OSO3M임)이거나, 또는 R1과 R2는 인접한 질소원자와 함께 3원 내지 9원의 포화 또는 불포화 헤테로환상 라디칼을 형성하거나, 또는 -O-, -S-, -SO2-, -N= 및 -NR3(이 때, R3은 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-하이드록시알킬, C1-C4-클로로알킬 또는 C1-C4-설페이토알킬임)으로 이루어진 군에서 선택된 또 하나의 헤테로 기와 함께 5원 내지 9원의 포화 또는 불포화 헤토로환상 라디칼을 형성한다.
대표청구항
▼
하기 화학색(1)의 알루미늄 프탈로시아닌 :상기 식에서 X는 Cl또는 OH이고, Z는 비닐 또는 식 -CH2CH2-Y의 기이고, 이 때 Y는 알칼리 조건하에 제거될 수 있는 치환체 또는 설포, 하이드록실 또는 -NR-T기이고, 이 때 T는 섬유반응성 헤테로환상 라디칼이고, R은 수소; C1-C6-알킬; 또는 OH, SO3M, OSO3M, COOM, OCH3 또는 OC2H5로 치환된 C1-C6-알킬)이고, a는 수 0 내지 3이고, b는 수 0 내지 4이고, c는 수 0.5 내지 4이고, M은 수소, 알칼리 금속 또는 치환되거나 치환
하기 화학색(1)의 알루미늄 프탈로시아닌 :상기 식에서 X는 Cl또는 OH이고, Z는 비닐 또는 식 -CH2CH2-Y의 기이고, 이 때 Y는 알칼리 조건하에 제거될 수 있는 치환체 또는 설포, 하이드록실 또는 -NR-T기이고, 이 때 T는 섬유반응성 헤테로환상 라디칼이고, R은 수소; C1-C6-알킬; 또는 OH, SO3M, OSO3M, COOM, OCH3 또는 OC2H5로 치환된 C1-C6-알킬)이고, a는 수 0 내지 3이고, b는 수 0 내지 4이고, c는 수 0.5 내지 4이고, M은 수소, 알칼리 금속 또는 치환되거나 치환되지 않은 암모늄 이온이고, R1과 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C6-알킬; 화학식 OH, SO3M 또는 OSO3M 중 1개 또는 2개의 라디칼로 치환된 C1-C6-알킬; 페닐; OH, SO3M 또는 COOM 중 1개 내지 3개의 라디칼로 치환된 페닐이거나; 또는 하기 화학식(2), 화학식(3) 또는 화학식(4)의 라디칼(이 때, n은 수 0 내지 3이고, m은 수 0 또는 1이고, n과 m의 합은 1,2,3 또는 4이고, x는 정수 2 내지 6이고, y는 수 0 내지 3이고, W는 C1-C6-알킬렌, -(CH2)2-O-(CH2)2-또는 화학결합이고, Y1은 -CH=CH2, -CH2CH2Cl, -CH2CH2OH 또는 -CH2CH2OSO3M임)이거나, 또는 R1과 R2는 인접한 질소원자와 함께 3원 내지 9원의 포화 또는 불포화 n-헤테로환상 라디칼을 형성하거나, 또는 -O-, -S-, -SO2-, -N= 및 -NR3(이 때, R3은 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-하이드록시알킬, C1-C4-클로로알킬 또는 C1-C4-설페이토알킬임)으로 이루어진 군에서 선택된 또 하나의 헤테로 기와 함께 5원 내지 8원의 포화 또는 불포화 헤토로환상 라디칼을 형성한다.
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