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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1998-0037372 (1998-09-10) |
공개번호 | 10-2000-0019338 (2000-04-06) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980037372 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 저압사형주조방법에 관한 것으로, 특히 저압사형주조공법에 있어서, 스트론튬에 의한 공정실리콘 개량화 및 미세화처리하여 상기 스트론튬 투입에 의한 소재의 개량처리시, 내부기공 및 수축의 감소를 도모하도록 한 저압사형주조방법으로, 소재를 용해하는 용융단계와; 상기 용해된 용융물의 내부조직의 안정화를 위해 12시간 이상 연속 보온하는 초기 보온 및 첨가제 주입단계(S1)와; 용탕과 반응한 첨가제를 뺀 나머지 용탕과 함께 반응한 슬러그를 제거하는 슬러그 제거단계(S2)와; 상기 슬러그가 제거된 순수 용탕을 주입하는 단계(S3)로
소재를 용해하는 용융단계와;상기 용해된 용융물의 내부조직의 안정화를 위해 12시간 이상 연속 보온하는 초기보온 및 첨가제 주입단계와;상기 초기보온단계 및 첨가제 주입단계를 거친 후, 용탕과 반응한 첨가제를 뺀 나머지 용탕과 함께 반응한 슬러그를 제거하는 슬러그 제거단계와;상기 슬러그가 제거된 순수 용탕을 주입하는 단계로 됨을 특징으로 하는 저압사형주조방법.
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