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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1998-0052789 (1998-12-03) |
공개번호 | 10-2000-0037955 (2000-07-05) |
등록번호 | 10-0322896-0000 (2002-01-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980052789 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1998-12-03) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 금(金)의 전해정련 방법과 그 장치에 관한 것으로, 그 목적은 금 정련공정을 단순화하여 작업능률을 향상시키고, 고순도의 금을 용이하게 정련할 수 있는 금(金)의 전해정련방법과 그 장치를 제공하는 것이다.본 발명은 금의 함량이 85%∼98%인 지금(地金)을 왕수에 용해시킨 후 이를 여과하여 염화은을 분리·제거하고, 용액을 가열하여 질산을 제거한 염화금산 용액에 유산소다(Na2S2O4)을 가하여 환원석출시킨 금분말을 정련하는 방법에 있어서; 상기 금분말을 염화금산 농도 100g/ℓ와 염산 농도 120g/ℓ로 조성된 전해액 3
금의 함량이 85%∼98%인 지금(地金)을 왕수에 용해시킨 후 이를 여과하여 염화은을 분리·제거하고, 용액을 가열하여 질산을 제거한 염화금산 용액에 유산소다(Na2S2O4)을 가하여 환원석출시킨 금분말을 전해정련하는 장치에 있어서;상기 전해정련장치는 전해액이 충전되는 원통형상의 전해조와;상기 전해조내에 설치되어 전해조를 양극실과 음극실로 분리하고, 0.2㎛의 공극을 구비하는 격막과;상기 전해조의 중앙에 위치하도록 양극실내에 설치되는 교반기와;상기 교반기와 격막 사이에 위치하도록 양극실내에 설치된 4개의 고밀도 탄소 양극과;상기 격막
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