초록 ▼

(목적) 공정의 단순화, 처리시간의 단축, 폐수에 의한 수질오염의 방지, 시설설치 면적의 감축, 오존층 파괴물질을 사용하지 않아도 되는 인산염계 화성피막 금속표면 처리방법을 제공함을 목적으로 한다.(구성) 탈지, 인산염피막 처리조에 축합인산염으로 울트라메타인산나트륨(Sodium Ultra Metaphosphate), 피로인산나트륨(Sodium Pyro Phosphate), 헥사메타인산나트륨(Sodium Hexa Metaphosphate)의 1종 이상 0.5∼5중량%, 계면활성제로 소듐 디옥틸 설퍼썩시네이트(Sodium Dioctyl

(목적) 공정의 단순화, 처리시간의 단축, 폐수에 의한 수질오염의 방지, 시설설치 면적의 감축, 오존층 파괴물질을 사용하지 않아도 되는 인산염계 화성피막 금속표면 처리방법을 제공함을 목적으로 한다.(구성) 탈지, 인산염피막 처리조에 축합인산염으로 울트라메타인산나트륨(Sodium Ultra Metaphosphate), 피로인산나트륨(Sodium Pyro Phosphate), 헥사메타인산나트륨(Sodium Hexa Metaphosphate)의 1종 이상 0.5∼5중량%, 계면활성제로 소듐 디옥틸 설퍼썩시네이트(Sodium Dioctyl Sulfosuccinate), 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르(Polyoxyethylene Alkylphenyl Ether), 폴리옥시에틸렌 알킬에테르(Polyoxyethylene Alkyl Ether), 알킬인산나트륨 또는 알킬인산칼륨(Sodium or Potasium Alkylphosphate)의 1종 이상 0.1∼2중량%, 알코올류로 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, 이소부틸알코올, 노르말부틸알코올 1종 이상 1∼30중량%, 인산금속염으로 인산아연, 인산철, 인산망간, 인산크롬의 1종 이상 0.1∼5중량%, 인산 또는 질산 0.1∼5중량%, 잔량은 일반수 98.2∼53.0wt%의 혼합용액을 50∼70℃로 가온 교반하면서 철판을 1∼5분 침지한다.

대표청구항 ▼

금속표면에 인산염 피막처리를 함에 있어서, 축합인산염 0.5∼5중량%, 계면활성제 0.1∼2중량%, 알코올 1∼30중량%, 인산금속염 0.1∼7중량%, 인산 또는 질산을 0.1∼5중량% 및 잔량을 일반수로 이루어진 혼합액에 철편을 침지하는 제1공정과 계면활성제 0.1∼2중량%, 알코올 1∼30중량%, 벤조트리아졸 0.03∼0.9중량%, 트리에탄올아민 0.07∼2.1중량%, 잔량을 일반수로 이루어진 혼합물에 전기 철편을 침지하는 제2공정과 건조 공정 및 도장공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 탈지와 인산염계 피막처리를 이욕식으로 처리하

금속표면에 인산염 피막처리를 함에 있어서, 축합인산염 0.5∼5중량%, 계면활성제 0.1∼2중량%, 알코올 1∼30중량%, 인산금속염 0.1∼7중량%, 인산 또는 질산을 0.1∼5중량% 및 잔량을 일반수로 이루어진 혼합액에 철편을 침지하는 제1공정과 계면활성제 0.1∼2중량%, 알코올 1∼30중량%, 벤조트리아졸 0.03∼0.9중량%, 트리에탄올아민 0.07∼2.1중량%, 잔량을 일반수로 이루어진 혼합물에 전기 철편을 침지하는 제2공정과 건조 공정 및 도장공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 탈지와 인산염계 피막처리를 이욕식으로 처리하는 금속표면처리공정.