초록 ▼

본 발명은 오염화인(PCl5), 염화리튬(LiCl), 및 불산(HF)을 원료로하여 육불화인산리튬(LiPF6)을 제조하는 방법에 있어서, 오염화인을 불산과 반응시켜 오불화인(PF5)을 제조하는 단계(제1단계 반응)와 오불화인을 불산용액중에서 염화리튬과 반응시켜 육불화인산리튬을 제조하는 단계(제2단계 반응)로 구성시키고, 상기 1, 2단계 반응에서 불소가스로 처리하여 수분을 완전히 제거한 무수불산을 사용하는 것을 특징으로하고 제2단계 반응에서 F2 개스를 처리하여 반응계 중의 LiPOxFy를 배제시켜 육불화인산리튬을 제조하는 방법에 관

본 발명은 오염화인(PCl5), 염화리튬(LiCl), 및 불산(HF)을 원료로하여 육불화인산리튬(LiPF6)을 제조하는 방법에 있어서, 오염화인을 불산과 반응시켜 오불화인(PF5)을 제조하는 단계(제1단계 반응)와 오불화인을 불산용액중에서 염화리튬과 반응시켜 육불화인산리튬을 제조하는 단계(제2단계 반응)로 구성시키고, 상기 1, 2단계 반응에서 불소가스로 처리하여 수분을 완전히 제거한 무수불산을 사용하는 것을 특징으로하고 제2단계 반응에서 F2 개스를 처리하여 반응계 중의 LiPOxFy를 배제시켜 육불화인산리튬을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 PCl5 및 LiCl등 중저가의 원료를 사용하면서도 반응계중에 전해로 얻어지는 고순도의 F2 개스를 이용하므로서 고수율 고순도의 육불화인산리튬을 제조할 수 있다는 장점을 갖는다.

대표청구항

오염화인(PCl5), 염화리튬(LiCl), 및 불산(HF)을 원료로하여 육불화인산리튬(LiPF6)을 제조하는 방법에 있어서, 오염화인을 불산과 반응시켜 오불화인(PF5)을 제조하는 단계(제1단계 반응)와 오불화인을 불산용액중에서 염화리튬과 반응시켜 육불화인산리튬을 제조하는 단계(제2단계 반응)로 구성시키고, 상기 1, 2단계 반응에서 F2 개스 처리하여 수분을 제거한 무수불산을 사용하고 제2단계 반응계에 F2 개스를 접촉시키는 것을 특징으로 하는 육불화인산리튬의 제조방법.

오염화인(PCl5), 염화리튬(LiCl), 및 불산(HF)을 원료로하여 육불화인산리튬(LiPF6)을 제조하는 방법에 있어서, 오염화인을 불산과 반응시켜 오불화인(PF5)을 제조하는 단계(제1단계 반응)와 오불화인을 불산용액중에서 염화리튬과 반응시켜 육불화인산리튬을 제조하는 단계(제2단계 반응)로 구성시키고, 상기 1, 2단계 반응에서 F2 개스 처리하여 수분을 제거한 무수불산을 사용하고 제2단계 반응계에 F2 개스를 접촉시키는 것을 특징으로 하는 육불화인산리튬의 제조방법.