초록 ▼

본 발명은 시멘타이트나 석출물 입자를 단시간에 효과적으로 구상화 처리하는 강의 구상화 열처리 방법에 관한 것으로; 본 발명의 목적은, 관련공정에 있어 열간소성가공 공정과 구상화 열처리 공정 사이에 불림 열처리 공정을 필요로 하지 않기 때문에 전체 공정의 진행이 빨라지게 하는 한편, 상기한 기존의 강의 구상화 열처리 방법에 있어 구상화에 필요한 시간을 줄여주는 동시에 구상화율을 높여주기 위한 것이며; 상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, 초기조직을 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도까지

본 발명은 시멘타이트나 석출물 입자를 단시간에 효과적으로 구상화 처리하는 강의 구상화 열처리 방법에 관한 것으로; 본 발명의 목적은, 관련공정에 있어 열간소성가공 공정과 구상화 열처리 공정 사이에 불림 열처리 공정을 필요로 하지 않기 때문에 전체 공정의 진행이 빨라지게 하는 한편, 상기한 기존의 강의 구상화 열처리 방법에 있어 구상화에 필요한 시간을 줄여주는 동시에 구상화율을 높여주기 위한 것이며; 상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, 초기조직을 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도까지 가열하는 단계, 가열된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 유지하는 단계, 유지된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 Pf-(20~70℃)의 구상화 종료 온도까지 시간당 5~40℃의 속도로 냉각하는 단계, 및 냉각된 조직을 상기 Pf-(20~70℃)의 구상화 종료 온도에서 등온유지 또는 연속서냉하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 강의 구상화 열처리 방법을 제공해준다.

대표청구항 ▼

초기조직을 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도까지 가열하는 단계;가열된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 유지하는 단계; 유지된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 Pf-(20~70℃)의 구상화 종료 온도까지 시간당 5~40℃의 속도로 냉각하는 단계; 및냉각된 조직을 상기 Pf-(20~70℃)의 구상화 종료 온도에서 등온유지 또는 연속서냉하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는

초기조직을 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도까지 가열하는 단계;가열된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 유지하는 단계; 유지된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 Pf-(20~70℃)의 구상화 종료 온도까지 시간당 5~40℃의 속도로 냉각하는 단계; 및냉각된 조직을 상기 Pf-(20~70℃)의 구상화 종료 온도에서 등온유지 또는 연속서냉하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 강의 구상화 열처리 방법.초기조직을 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도까지 가열하는 단계;가열된 조직을 상기 AC1+{10℃~[(AC3 또는 AC㎝-AC1)/2]}의 오스테나이트화 온도에서 소재의 두께 25mm당 1시간+(10~30) 시간동안 유지하는 단계; 및유지된 조직을 냉각시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 강의 구상화 열처리 방법.