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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-1999-0035221 (1999-08-24) |
| 공개번호 | 10-2001-0019022 (2001-03-15) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1019990035221 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 플라즈마중합 연속처리장치에 관한 것으로서, 표면처리된 시료가 증착챔버로부터 감김챔버로 이송되어 롤에 감기는 과정에서 시료의 온도를 감소시키는 시료 냉각수단을 감김챔버 내부에 구비한 플라즈마중합처리장치를 제공한다. 본 발명에 의하면 종래의 플라즈마중합처리하는 장치에 시료 냉각수단를 구비시킴으로써 표면처리 과정에서 온도가 상승된 시료가 롤 형태로 감길 때 온도의 누적을 막고, 따라서 온도 상승에 의한 시료의 열변형을 효과적으로 억제시킬 수 있게 된다.
표면처리되는 시료를 풀어주어 다른 챔버로 이송시키는 풀림롤을 포함하는 풀림챔버와,상기 풀림챔버의 풀림롤로부터 도입되는 시료의 상하에 대향되는 별도의 전극을 설치하여 방전에 의한 플라즈마로 상기 시료 양 표면 상을 중합처리하는 증착챔버와,상기 증착챔버에서 표면처리된 시료를 감아주는 감김롤을 포함하고 있는 감김챔버와,상기 감김챔버 내에 설치된 시료 냉각수단과,상기 증착챔버를 진공으로 유지하기 위한 펌핑수단 및반응성 가스 및 비반응성 가스를 도입하는 가스유입구를 포함하여 구성되는 플라즈마중합 연속처리장치.
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