초록

화장용 또는 제약학적 수용 가능한 담체에 디하이드록시아세톤 및 아졸로 구성된 피부를 인공적으로 그을릴 수 있는 미용 조성물에 대한 것이다. 또한, 피부에 디하이드록시아세톤 및 아졸을 제공하는 것으로 구성된 피부를 인공적으로 그을리는 방법을 제공한다.

대표청구항 ▼

피부를 그을리는 조성물에 있어서, (a) 디하이드록시아세톤,(b) 다음의 구조를 가지는 아졸(azole)이때, X는 S, O 또는 NR1이고, R1 내지 R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소; 페놀; C1-C6 알킬 치환 안된 또는 페닐, 하이드록시르 카르복시, 벤질옥시, 아미노, 할로겐, 카르복실산, 선폰산염 또는 인산염으로 치환된 것이고; 또는 -CH2-CH(COOR')NR"R"'이다, 이때 R', R", R'"는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소 또는 C1-C4 알킬이 되고;(c) 미용상 또는 제약학적으로 수용가

피부를 그을리는 조성물에 있어서, (a) 디하이드록시아세톤,(b) 다음의 구조를 가지는 아졸(azole)이때, X는 S, O 또는 NR1이고, R1 내지 R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소; 페놀; C1-C6 알킬 치환 안된 또는 페닐, 하이드록시르 카르복시, 벤질옥시, 아미노, 할로겐, 카르복실산, 선폰산염 또는 인산염으로 치환된 것이고; 또는 -CH2-CH(COOR')NR"R"'이다, 이때 R', R", R'"는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소 또는 C1-C4 알킬이 되고;(c) 미용상 또는 제약학적으로 수용가능한 담체로 구성된 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 디하이드록시아세톤은 총 조성물의 중량에 약 1 내지 약 20wt%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.제 2 항에 있어서, 디하이드록시아세톤은 총 조성물의 중량에 약 3 내지 약 5wt%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 아졸은 총 조성물의 중량에 약 1.5 내지 약 7.5wt%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.제 4 항에 있어서, 아졸은 총 조성물의 중량에 약 1.5 내지 약 2wt%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, X는 NR1 또는 S인 것을 특징으로 하는 조성물.제 6 항에 있어서, R1, R2, R3은 수소인 것을 특징으로 하는 조성물.제 7 항에 있어서, R4은 수소인 것을 특징으로 하는 조성물.제 7 항에 있어서, R4은 CH2-CH(COOH)NH2인 것을 특징으로 하는 조성물.제 7 항에 있어서, R4은 페닐인 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 유기산이 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 조성물.제 11 항에 있어서, 유기산은 알파-하이드록시산과 베타-하이드록시산으로 구성된 것을 특징으로 하는 조성물.제 11 항에 있어서, 유기산은 구연산과 살리실산에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.제 11 항에 있어서, 유기산은 조성물의 pH를 약 3 내지 약 5로 낮추는데 충분한 양으로 총 조성물의 중량에 포함된 것을 특징으로 하는 조성물.제 11 항에 있어서, 유기산은 총 조성물의 중량에 약 5wt%양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 항산화제가 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 조성물.제 16 항에 있어서, 항산화제는 녹차 추출물인 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 화장용 또는 제약학적 수용 가능한 담체는 하이드로알코올성 용액인 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 화장용 또는 제약학적 수용 가능한 담체는 오일/물 에멸젼인 것을 특징으로 하는 조성물.제 19 항에 있어서, 에멸젼은 비이온성인 것을 특징으로 하는 조성물.제 1 항에 있어서, 콜로이드성 미네랄 분산액이 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 조성물.제 21 항에 있어서, 나트륨, 칼슘, 티타늄, 루비디움, 란탄, 이트륨, 바나디움, 세륨, 네오디니움등과 같은 원소에서 유도한 이온을 포함하는 콜로이드성 분산액을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물. 제 1 항에 있어서, 태양광차단체가 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 조성물.피부를 그을리는 조성물에 있어서, (a) 디하이드록시아세톤이 총 조성물의 약 1.0 내지 약 20wt%,(b) 다음의 구조를 가지는 아졸(azole)이 총 조성물의 약 1.5 내지 약 7.5wt%,이때, X는 S, O 또는 NR1이고, R1 내지 R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소; 페놀; C1-C6 알킬 치환안된 또는 페닐, 하이드록시르 카르복시, 벤질옥시, 아미노, 할로겐, 카르복실산, 선폰산염 또는 인산염으로 치환된 것이고; 또는 -CH2-CH(COOR')NR"R"'이다, 이때 R', R", R'"는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소 또는 C1-C4 알킬이 되고;(c) 조성물의 pH를 약 3 내지 약 5로 낮추는데 충분한 양으로 총 조성물의 중량에 포함된 유기산. (d) 미용상 또는 제약학적으로 수용가능한 담체로 구성된 것을 특징으로 하는 조성물.제 24 항에 있어서, X는 NR1 또는 S인 것을 특징으로 하는 조성물.제 25 항에 있어서, R1, R2, R3은 수소인 것을 특징으로 하는 조성물.제 26 항에 있어서, R4은 수소인 것을 특징으로 하는 조성물.제 26 항에 있어서, R4은 CH2-CH(COOH)NH2인 것을 특징으로 하는 조성물.제 26 항에 있어서, R4은 페닐인 것을 특징으로 하는 조성물.제 24 항에 있어서, 콜로이드성 미네랄 분산액이 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 조성물.제 30 항에 있어서, 나트륨, 칼슘, 티타늄, 루비디움, 란탄, 이트륨, 바나디움, 세륨, 네오디니움등과 같은 원소에서 유도한 이온을 포함하는 콜로이드성 분산액을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물. 사람의 피부를 인공적으로 그을리는 방법에 있어서, 디하이드록시아세톤와 다음의 화학식으로 된 아졸을 피부에 제공하는 것으로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.이때, X는 S, O 또는 NR1이고, R1 내지 R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소; 페놀; C1-C6 알킬 치환안된 또는 페닐, 하이드록시르 카르복시, 벤질옥시, 아미노, 할로겐, 카르복실산, 선폰산염 또는 인산염으로 치환된 것이고; 또는 -CH2-CH(COOR')NR"R"'이다, 이때 R', R", R'"는 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 수소 또는 C1-C4 알킬이 된다.제 32 항에 있어서, 디하이드록시아세톤 및 아졸은 피부에 동시에 제공되는 것을 특징으로 하는 방법.제 32 항에 있어서, 디하이드록시아세톤 및 아졸은 피부에 순차적으로 제공되는 것을 특징으로 하는 방법.제 34 항에 있어서, 디하이드록시아세톤이 피부에 제공되기 전에 아졸을 피부에 제공하는 것을 특징으로 하는 방법.제 32 항에 있어서, X는 NR1이고, R1, R2, R3은 수소인 것을 특징으로 하는 방법.제 1 항에 따른 피부 조성물을 사람의 피부에 제공하는 것으로 구성된 것을 특징으로 하는 사람의 피부를 인공적으로 그을리는 방법.제 24 항에 따른 피부 조성물을 사람의 피부에 제공하는 것으로 구성된 것을 특징으로 하는 사람의 피부를 인공적으로 그을리는 방법.