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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2000-0003685 (2000-01-26) |
| 공개번호 | 10-2001-0076500 (2001-08-16) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020000003685 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 얼라인먼트 방법에 관한 것으로서, 특히 격자형 얼라인먼트 마크에 광빔을 조사하는 단계와, 격자형 얼라인먼트 마크로부터 산란된 복수의 고차 회절광들을 각각 센싱하는 단계와, 센싱된 복수의 고차 회절광 신호들에 각각 대응하는 사인파신호들을 각각 발생하는 단계와, 복수의 사인파신호들을 합성하여 상기 얼라인먼트 마크의 엣지 정보를 가진 합성파신호를 발생하는 단계와, 합성파신호와 기준신호를 비교하여 두 신호의 차가 적은 방향으로 상기 얼라인먼트 마크를 이동하여 마크의 센터가 상기 광빔의 광축에 얼라인되도록 조정하는 단계를 포함한다
격자형 얼라인먼트 마크에 광빔을 조사하는 단계;상기 격자형 얼라인먼트 마크로부터 산란된 복수의 고차 회절광들을 각각 센싱하는 단계; 센싱된 복수의 고차 회절광 신호들에 각각 대응하는 사인파신호들을 각각 발생하는 단계;상기 복수의 사인파신호들을 합성하여 상기 얼라인먼트 마크의 엣지 정보를 가진 합성파신호를 발생하는 단계;상기 합성파신호와 기준신호를 비교하여 두신호의 차가 적은 방향으로 상기 얼라인먼트 마크를 이동하여 마크의 센터가 상기 광빔의 광축에 얼라인되도록 조정하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
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