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겔튜브를 이용한 터널발파공법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • F42D-007/00
출원번호 10-2000-0016640 (2000-03-30)
공개번호 10-2001-0094411 (2001-11-01)
DOI http://doi.org/10.8080/1020000016640
발명자 / 주소
  • 장동립 / 경기도성남시분당구분당동**번지쌍용분당빌라***호
출원인 / 주소
  • 쌍용건설 주식회사 / 서울 송파구 신천동 *-**
대리인 / 주소
  • 강석주; 김현철; 특허법인중앙; 이헌수; 박희식; 오종근 (KANG, Seok Jou)
  • 경기 과천시 과천동***-**; 서울 종로구 수송동 코리안리재보험빌딩 *층(특허법인중앙); 서울 종로구 수송동 코리안리재보험빌딩 *층; 서울 강남구 역삼동 ***-* ***빌딩 **층 ****호(신지국제특허법률사무소); 대전 서구 둔산동 *** 청사오피스텔 ***호(특허법인중앙 분사무소); 북경윤평지식산권대리유한공사중국북경시해정구북사배서로*호은곡빌딩***호
심사청구여부 있음 (2000-03-30)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 겔튜브를 이용한 터널발파공법에 관한 것이다. 종래의 일반 터널발파공법은 굴착발파시 진동 및 소음이 심할 뿐만 아니라 소정의 발파에너지 확보를 위해서는 다량의 화약을 필요로 하므로 발파시 생기는 유해가스와 분진 및 파편량이 많아질 수 밖에 없고, 또한 상기 분진 및 파편의 비산으로 안전사고의 위험성이 높은 문제점이 있었다. 그리고 발파시 상기한 바와같은 진동 및 소음을 줄이기 위해서는 화학량을 줄일 수 밖에 없어 굴착장 및 굴착량의 감소로 공사기간의 지연을 초래하는 문제점이 있었다. 또, 화약발파시 생기는 유해가스의

대표청구항

삽입공(1)을 일정한 깊이와 간격으로 천공하는 천공단계와;상기 삽입공(1)에 물을 충진시키는 물충진단계와;물이 충진된 삽입공(1)에 제1겔튜브(2)를 삽입하여 장전시키는 1차겔장전단계와;상기 제1겔튜브(2)를 따라 삽입공(1)에 화약(3)과 뇌관을 연결하는 장약단계와;상기 화약(3)을 따라 삽입공(1)에 제2겔튜브(4)를 삽입하여 장전시키는 2차겔장전단계와;상기 삽입공(1)을 모래(5)로 메우는 전색단계와;장전된 화약을 발파기에 연결하여 발파하는 발파단계로 이루어진 것을 특징으로 한 겔튜브를 이용한 터널발파공법.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] EXCAVATION OF BEDROCK | FUJISE TAISUKE, HOSHINO KENZO
  2. [한국] 무진동 암반발파공법 | 윤덕일
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