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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2000-0016640 (2000-03-30) |
공개번호 | 10-2001-0094411 (2001-11-01) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020000016640 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2000-03-30) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 겔튜브를 이용한 터널발파공법에 관한 것이다. 종래의 일반 터널발파공법은 굴착발파시 진동 및 소음이 심할 뿐만 아니라 소정의 발파에너지 확보를 위해서는 다량의 화약을 필요로 하므로 발파시 생기는 유해가스와 분진 및 파편량이 많아질 수 밖에 없고, 또한 상기 분진 및 파편의 비산으로 안전사고의 위험성이 높은 문제점이 있었다. 그리고 발파시 상기한 바와같은 진동 및 소음을 줄이기 위해서는 화학량을 줄일 수 밖에 없어 굴착장 및 굴착량의 감소로 공사기간의 지연을 초래하는 문제점이 있었다. 또, 화약발파시 생기는 유해가스의
삽입공(1)을 일정한 깊이와 간격으로 천공하는 천공단계와;상기 삽입공(1)에 물을 충진시키는 물충진단계와;물이 충진된 삽입공(1)에 제1겔튜브(2)를 삽입하여 장전시키는 1차겔장전단계와;상기 제1겔튜브(2)를 따라 삽입공(1)에 화약(3)과 뇌관을 연결하는 장약단계와;상기 화약(3)을 따라 삽입공(1)에 제2겔튜브(4)를 삽입하여 장전시키는 2차겔장전단계와;상기 삽입공(1)을 모래(5)로 메우는 전색단계와;장전된 화약을 발파기에 연결하여 발파하는 발파단계로 이루어진 것을 특징으로 한 겔튜브를 이용한 터널발파공법.
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