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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2000-0017844 (2000-04-06) |
| 공개번호 | 10-2001-0094275 (2001-10-31) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020000017844 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
웨이퍼 엣지 센싱시, 웨이퍼 엣지부에 국부적 열변형이 발생하는 것을 방지할 수 있는 웨이퍼 엣지 센싱 장치가 개시되어 있다. 웨이퍼의 절단부를 검출하기 위한 레이저 다이오드 및 광 센서로 구성되는 엣지 센서가 웨이퍼의 엣지측에 설치된다. 레이저 다이오드로부터 광 센서로 입사되는 프로세스 이미지는 통과시키고 상기 레이저 다이오드로부터 방출되는 열이 웨이퍼의 엣지부에 전달되는 것을 방지하기 위해 레이저 다이오드와 웨이퍼 사이에는 유리 플레이트가 삽입된다. 또한, 레이저 다이오드를 향해 질소 가스가 분사되어 레이저 다이오드로부터 발생하는
웨이퍼의 엣지부가 그 사이에 위치하도록 장착되며, 상기 웨이퍼를 중심으로 상부에 설치되는 발광 소자 및 하부에 설치되는 수광 소자를 포함하는 엣지 센서;상기 발광 소자로부터의 발열이 상기 웨이퍼의 엣지부에 전달되는 것을 차단하는 제1수단; 및상기 발광 소자로부터의 발열을 퍼지(purge)시키는 제2수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 엣지 센싱 장치.
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