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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2000-0074697 (2000-12-08) |
공개번호 | 10-2002-0045294 (2002-06-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020000074697 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 공정을 진행함에 따라 생성되는 파우더를 화학기상증착 설비 외부로 배출함에 있어서, 파우더가 중간에서 적체되었는지 여부를 사전에 체크하여 공정 진행중 파우더 적체로 인한 공정 중단으로 웨이퍼가 손실되는 것을 방지한 반도체 제조용 화학기상증착 설비에 관한 것으로, 본 발명 반도체 제조용 화학기상증착 설비는 파우더가 배기 배관 중간에서 적체되었는지 여부가 사전에 체크 가능하고, 적체 여부에 따라 배기 배관의 크리닝 주기를 재설정 해줌으로써 배기 배관의 적체 현상을 미연에 방지할 수 있을뿐만 아니라 배기 배관의 적체로 인한 펌프
소정 화학반응에 의해 웨이퍼 상에 박막이 증착되는 화학기상증착 챔버와, 상기 화학기상증착 챔버에 반응 가스를 공급하는 반응가스 공급장치와, 상기 화학기상증착 챔버에서 발생하는 파우더를 화학기상증착 설비 외부로 배출하는 파우더 배기장치를 포함하며, 상기 파우더 배기장치는 일측 단부가 화학기상증착 챔버와 연통되고, 타측 단부는 상기 화학기상증착 설비 외부와 연통된 배기 배관과;상기 배기 배관에 설치되어 상기 배기 배관을 선택적으로 개폐하는 연동 밸브와;상기 연동 밸브와 상기 화학기상증착 챔버 사이의 상기 배기 배관에 설치되어 상기 파우
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