초록 ▼

본 발명은 SiO2/Al2O3비가 3.0미만인 호저사이트 구조를 갖고, 그 결정내에 Fe, B, Ga 중 적어도 어느 3가 원소를 구비하며, 또한 (AlO4)5- 사면체 단위로 양이온이 회합되는 결정성 X형 제올라이트로 이루어진 질소흡착제에 관한 것으로, 이것은 제올라이트 중에 소정의 3가 원소가 포함되어 있음에도 불구하고, 흡착에 기여하는 양이온 사이트수가 유지되어 있고, 고도의 질소·산소의 분리성능을 가지며, 내열성의 면에서도 우수하며, 또한 본 발명의 질소흡착제는 진공가열처리를 실시한 후 질소를 흡착시킨다는 특수한 방법을 사용

본 발명은 SiO2/Al2O3비가 3.0미만인 호저사이트 구조를 갖고, 그 결정내에 Fe, B, Ga 중 적어도 어느 3가 원소를 구비하며, 또한 (AlO4)5- 사면체 단위로 양이온이 회합되는 결정성 X형 제올라이트로 이루어진 질소흡착제에 관한 것으로, 이것은 제올라이트 중에 소정의 3가 원소가 포함되어 있음에도 불구하고, 흡착에 기여하는 양이온 사이트수가 유지되어 있고, 고도의 질소·산소의 분리성능을 가지며, 내열성의 면에서도 우수하며, 또한 본 발명의 질소흡착제는 진공가열처리를 실시한 후 질소를 흡착시킨다는 특수한 방법을 사용하여 흡착성능이 향상되는 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

SiO2/Al2O3 비가 3.0 미만의 호져사이트 구조를 갖는 결정성 X형 제올라이트로 이루어진 질소흡착제로 결정내에 Fe, B, Ga 중 적어도 어느 3가원소를 구비함과 동시에 (AlO4)5- 사면체 단위로 양이온이 회합되는 것을 특징으로 하는 질소흡착제.제 1 항에 있어서,양이온이 Li+인 것을 특징으로 하는 질소흡착제.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,(AlO4)5- 사면체 단위의 60% 이상 88% 미만으로 양이온이 회합되는 것을 특징으로 하는 질소흡착제.제 1 항에 기재된 질소흡착제는 진공가열처리를 실시한 후 질소를 흡착

SiO2/Al2O3 비가 3.0 미만의 호져사이트 구조를 갖는 결정성 X형 제올라이트로 이루어진 질소흡착제로 결정내에 Fe, B, Ga 중 적어도 어느 3가원소를 구비함과 동시에 (AlO4)5- 사면체 단위로 양이온이 회합되는 것을 특징으로 하는 질소흡착제.제 1 항에 있어서,양이온이 Li+인 것을 특징으로 하는 질소흡착제.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,(AlO4)5- 사면체 단위의 60% 이상 88% 미만으로 양이온이 회합되는 것을 특징으로 하는 질소흡착제.제 1 항에 기재된 질소흡착제는 진공가열처리를 실시한 후 질소를 흡착시키는 것을 특징으로 하는 질소흡착제의 사용방법.제 4 항에 있어서,진공가열의 온도가 400℃ 이상 600℃ 이하인 것을 특징으로 하는 질소흡착제의 사용방법.