초록

간섭계 (260) 의 측정 경로 (298) 를 따라 상이한 파장들을 갖는 두개의 라이트 빔들 (9, 10) 을 제공하기 위한 라이트 소오스들 (1) 을 포함하고, 이들은 서로에 관해 실질적으로 조파적으로 관련되어 있으며, 검출기들 (85, 86) 의 출력 빔들 (103, 104) 은 전자 프로세서에 의해 전자적으로 생성되는, 측정 경로 (298) 에서 공기와 같은 기체의 굴절률의 변동을 측정하기 위한 방법 및 장치.

대표청구항 ▼

측정 경로에서의 기체의 굴절률의 영향을 측정하기 위한 간섭계 장치에 있어서,제 1 및 제 2 측정 레그들을 포함하는 간섭계 수단으로서, 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들은, 그들 중 하나 이상은 가변적인 물리적 길이를 갖고 그들 중 하나 이상은 적어도 부분적으로는 기체에 의해 점유되며, 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들 사이의 광로 길이 차이는 그들의 광로들 각각의 물리적 길이들 사이의 차이 및 상기 기체의 특성들에 따라 변화하도록 조립되고 배열되는 간섭계 수단;상이한 파장들을 갖는 둘 이상의 라이트 빔 (light beam)

측정 경로에서의 기체의 굴절률의 영향을 측정하기 위한 간섭계 장치에 있어서,제 1 및 제 2 측정 레그들을 포함하는 간섭계 수단으로서, 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들은, 그들 중 하나 이상은 가변적인 물리적 길이를 갖고 그들 중 하나 이상은 적어도 부분적으로는 기체에 의해 점유되며, 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들 사이의 광로 길이 차이는 그들의 광로들 각각의 물리적 길이들 사이의 차이 및 상기 기체의 특성들에 따라 변화하도록 조립되고 배열되는 간섭계 수단;상이한 파장들을 갖는 둘 이상의 라이트 빔 (light beam) 들을 발생시키는 수단;상기 라이트 빔들 각각의 제 1 및 제 2 의 소정의 부분들을 상기 간섭계 수단의 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들로 각각 도입시키는 수단으로서, 그럼으로써 상기 라이트 빔들의 상기 제 1 및 제 2 의 소정의 부분들 중 하나 이상이 각각 상기 제 1 및 제 2 측정 경로들을 통해 동일한 수의 패스 (pass) 들을 갖는 소정의 광로들을 따르고, 상기 라이트 빔들의 상기 소정의 제 1 및 제 2 부분들을 상기 간섭계 수단으로부터 상기 파장들에서의 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들을 통한 각각의 광로 길이들에 대한 정보를 포함하는 엑시트(exit)빔들로서 나오게 하는 도입 수단;상기 파장들에서 상기 제 1 및 제 2 의 측정 레그들의 상기 소정의 광로들 중 대응하는 하나로부터, 상기 각 엑시트 빔들 사이의 위상 차이들에 상응하는 정보를 포함하는 혼합된 광 신호들을 만들어내기 위하여 상기 엑시트 빔들을 결합시키는 수단;상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 측정 레그들의 물리적인 경로 길이들에서의 차이들 및 그들의 상대적인 변화율의 영향들에 대응하는 정보를 포함하는 전기 간섭 신호들을 발생시키기 위하여 상기 혼합된 광신호들을 검출하는 수단; 및상기 제 1 및 제 2 측정 레그들의 상기 물리적 경로 길이들에서의 상대적인 비율들이 변화하는 것을 보상하는 동안, 상기 측정 레그(들) 에서의 상기 기체의 영향을 결정하기 위하여 상기 전기 간섭 신호들을 분석하는 전자 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 전자 수단은,직접적으로 상기 전기 간섭 신호들을 수신하고 그로부터 위상들을 검출하여 위상 신호들을 발생시키는 수단으로서, 상기 위상 신호들은 상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 측정 레그들의 물리적 경로 길이들에서의 차이 및 그들의 변화율의 영향에 대응하는 정보를 갖게 되는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 2 항에 있어서,상기 전자 수단은 상기 위상 신호들에서의 위상 여분을 구하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 상이한 파장들은 서로간에 근사적인 조파 (harmonic) 관계를 갖고, 상기 근사적인 조파관계는 비율들의 순서로서 표현되며, 각 비율은 영이 아닌 작은 정수의 비율로 이루어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 전자 수단은,상기 전기 간섭 신호들을 수신하고, 상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들의 물리적 경로 길이들 및 그들의 변화율의 영향들에 대응하는 정보를 포함하는 초기 전기 위상 신호들을 발생시키는 위상 분석 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 5 항에 있어서,상기 전자 수단은 상기 파장들에 비례하는 인수들에 의해 상기 초기 위상 신호들을 곱함으로써 수정된 위상 신호들을 발생시키는 곱셈 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 6 항에 있어서,상기 전자 수단은,상기 수정된 위상 신호들을 수신하고 그들을 선택적으로 가산 및 감산하여, 상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들의 물리적 경로 길이들에서의 차이 및 그들의 변화율의 영향들에 대응하는 정보를 포함하는 합 및 차 위상 신호들을 발생시키는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 7 항에 있어서,상기 전자 수단은,상기 합 및 차 위상 신호들 및 상기 초기 위상 신호들 중 하나 이상을 수신하여 상기 측정 레그들의 물리적 길이 (L) 들의 차이를 결정하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 8 항에 있어서,상기 초기 위상 및 상기 합 및 차 위상 신호들 사이의 여분 (redundancy) 들을 구하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 6 항에 있어서,상기 파장들은 비조파 (non-harmonic) 관계인 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 6 항에 있어서,상기 라이트빔들의 상기 파장들은 서로간에 근사적인 조파관계를 갖고, 상기 근사적인 조파관계는 비율들의 순서로서 표현되며, 각 비율은 영이 아닌 작은 정수의 비율로 이루어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,웨이퍼들 상의 집적 회로들을 제조하기 위하여 상기 간섭계 장치와 동작적으로 결합되는 마이크로리소그래픽 (microlithographic) 수단을 더 포함하고, 상기 마이크로리소그래픽 수단은,하나 이상의 스테이지;공간적으로 패턴된 방사(radiation)를 상기 웨이퍼상으로 촬상시키는 조명 시스템; 및상기 하나 이상의 스테이지의 위치를 조정하기 위한 하나 이상의 위치조정 시스템을 포함하며,상기 하나 이상의 스테이지의 위치를 측정하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 간섭계 시스템.제 1 항에 있어서,웨이퍼 상의 집적 회로들을 제조하는데 사용하기 위하여 상기 간섭계 장치와 동작적으로 결합되는 마이크로리소그래픽 수단을 더 포함하고,상기 마이크로리소그래픽 수단은,웨이퍼를 지지하기 위한 하나 이상의 스테이지; 및방사 소오스, 마스크, 위치조정 시스템, 렌즈 조립물 및 상기 간섭계 장치의 소정의 부분들을 포함하는 조명 시스템을 포함하며,상기 소오스는 상기 마스크를 통해 방사를 보내어 공간적으로 패턴화된 방사를 생성하고, 상기 위치조정 시스템은 상기 소오스로부터의 방사와 관련된 상기 마스크의 위치를 조정하며, 상기 렌즈 조립물은 상기 공간적으로 패턴화된 방사를 상기 웨이퍼 상으로 촬상시키고, 상기 간섭계 장치는 상기 소오스로부터의 상기 방사와 관련된 상기 마스크의 위치를 측정하는 것과 같은 방식으로, 상기 마이크로리소그래픽 수단이 동작하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,제 1 및 제 2 구성요소들을 구비하는 집적 회로들을 제조하기 위하여 상기 간섭계 장치와 동작적으로 결합되는 마이크로리소그래픽 장치를 더 포함하고,상기 제 1 및 제 2 구성요소들은 서로에 관하여 이동가능하며, 상기 제 1 및 제 2 구성요소들은 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들에 연결되고, 상기 간섭계 장치가 상기 제 2 구성요소에 대한 상기 제 1 구성요소의 위치를 측정하는 것과 같은 방식으로 서로 협조하여 이동하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,리소그래피 마스크를 제조하는데 사용하기 위하여 상기 간섭계 장치와 동작적으로 결합되는 빔 라이팅 (beam writing) 시스템을 더 포함하고,상기 빔 라이팅 시스템은,라이트 빔(write beam)을 제공하여 기판을 패턴화 하게 하는 소오스;기판을 지지하기 위한 하나 이상의 스테이지;상기 라이트 빔을 상기 기판으로 전달하기 위한 빔 디렉팅 (beam directing) 조립물; 및상기 하나 이상의 스테이지 및 상기 빔 디렉팅 조립물 서로에 관한 위치를 조정하기 위한 위치 조정 시스템을 포함하며, 상기 빔 디렉팅 조립물에 관한 상기 하나 이상의 스테이지의 위치를 측정하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 11 항에 있어서,상기 비율들의 순서로서 표현되는 상기 근사적인 조파관계의 상대적인 정밀도는 크기의 차수이거나, 또는 상기 기체의 굴절률의 분산과 상기 기체의 굴절률 및 상기 측정 레그들의 광로 길이들의 차이의 변화의 측정을 위해 요구되는 상대적인 정밀도 (ε) 의 곱보다 작은 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,공지의 비율에 관한 비율(들)로서 표현되는 상기 파장들 사이의 관계의 상대적인 정밀도는 다운스트림 애플리케이션의 정밀도 요구에 대응하는 소정의 값보다 큰 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 17 항에 있어서,상기 비율로서 표현되는 상기 관계의 상대적인 정밀도를 모니터링하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 18 항에 있어서,상기 비율로서 표현되는 상기 관계의 상대적인 정밀도를 모니터링하기 위한 상기 수단에 응답하며, 상기 비율로서 표현되는 상기 관계의 상기 상대적인 정밀도가 다운스트림 애플리케이션의 정밀도 요구에 대응하는 소정의 값과 실질적으로 같거나 그보다 작게하기 위하여, 피드백 신호를 제공하여 상기 수단을 제어하고 상기 라이트 빔들을 발생시키는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 둘 이상의 라이트 빔들은 각각 직교 편광 상태들을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 20 항에 있어서,상기 라이트 빔들의 상기 직교 편광 상태들 사이에 주파수 차이를 도입하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 21 항에 있어서,상기 혼합된 광 신호들을 검출하는 수단은, 소정의 주파수 차들을 갖는 상기 혼합된 광 신호들 중에서 선택되는 하나를 수신하기 위한 단일 광 검출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 21 항에 있어서,상기 엑시트 빔들을 결합시키는 수단은 상기 라이트 빔들의 상기 편광 상태들을 혼합하기 위하여 사용되는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 23 항에 있어서,상기 혼합된 광 신호들에서 상기 위상 차이들에 대응하는 상기 정보는 공식에 따르는, 상기 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들의 전체적인 왕복 물리적 길이 (pL) 에서의 차이들과 관련된 위상 천이들 (Ψj) 이며, 여기에서이고, p 는 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들 중 하나 이상을 통하는 복수의 패스들의 수이며, nj 는 파장 (λj) 에 대응하는 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들 중 하나 이상에서의 굴절률이고, j 는 광로들과 결합되지 않은 위상 오프셋들인 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 24 항에 있어서,상기 전기 간섭 신호들은 의 식으로 되는 헤테로다인 신호들을 포함하고, 여기에서 시간-의존적인 인수 j(t) 는 로 주어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 25 항에 있어서,상기 상이한 파장들은 서로간에 근사적인 조파 (harmonic) 관계를 갖고, 상기 근사적인 조파관계는 비율들의 순서로서 표현되며, 각 비율은 영이 아닌 작은 정수의 비율로 이루어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 상이한 파장들은 비율로서 표현되는 서로간의 관계를 갖고, 상기 비율은 비조파(non-harmonic)인 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 25 항에 있어서,상기 전자 수단은 상기 헤테로다인 신호들을 수신하고 상기 위상 천이들 을 결정하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 26 항에 있어서,상기 헤테로다인 신호들로부터 둘 이상의 수정된 헤테로다인 신호들을 발생시키는 수단을 더 포함하고,상기 수정된 헤테로다인 신호들은의 식으로 되고, 여기에서이며, pj 는 p1p2 이고 상기 파장들의 상기 근사적인 조파관계로서의 비율을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 29 항에 있어서,식 으로 되는 슈퍼헤테로다인 신호를 발생시키기 위한 수단을 더 포함하고,상기 슈퍼헤테로다인 신호 (S) 는,로서 표현되는 압축된 캐리어를 갖는 2개의 사이드밴드들로 이루어지고, 여기에서이며, 그에 의해 상기 슈퍼헤테로다인 신호 (S) 는 동일한 진폭의 2개의 사이드밴드들 (S+ 및 S-) 로 이루어지고, 제 1 사이드밴드는 주파수 (ν) 와 위상 (θ) 을 갖고 제 2 사이드밴드는 주파수 (F) 와 위상 (Φ) 을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 26 항에 있어서,상기 헤테로다인 신호들로부터의 둘 이상의 수정된 헤테로다인 신호들을 발생시키는 수단을 더 포함하고,상기 수정된 헤테로다인 신호들은 의 식으로 되고, 여기에서이며, p1 및 p2 는 p1 ≠p2 이고 상기 파장들의 상기 근사적인 조파관계로서의 비율을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 전자 수단은 상기 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들의 물리적인 길이들 (pL) 에서의 차이를 결정하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 32 항에 있어서,상기 전자 수단은 고유의 광 특성인 기체의 역 분산 파워 (Γ) 를 수신하여 물리적 길이들에서의 차이를 계산하는 것으로 구성되며,여기에서이고, λ1, λ2 및 λ3 는 파장이고, n1, n2 및 n3 는 굴절률이며, 분모는 에 의해 대체될 수 있는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 간섭계 수단과 동작적으로 결합되는 마이크로리소그래픽 수단을 더 포함하고,물리적 길이 (L) 들에서의 상기 차이는 상기 마이크로리소그래픽 수단의 소정의 소자들 사이의 상대적인 거리에서의 변화를 결정하는데 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치. 제 1 항에 있어서,상기 라이트 빔들을 단일의 실질적으로 서로 선형적인 라이트 빔으로 정렬시키고, 상기 라이트 빔은 기체에 의해 점유되는 상기 측정 경로들 중 하나 이상을 따라 진행하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 간섭계 수단은 편광 미켈슨 (Michelson) 간섭계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 간섭계 수단은 차동 평면 거울 간섭계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.제 1 항에 있어서,상기 검출하는 수단으로부터 상기 전기 간섭 신호들을 직접 수신하고, 상기 전기 간섭 신호들을 디지털 형태로 변환시켜 뒤따르는 다운스트림 계산들에서의 위상 에러들을 감소시키는 것을 특징으로 하는 간섭계 장치.측정 경로에서의 기체의 굴절률의 영향을 측정하기 위한 간섭계 방법에 있어서,제 1 및 제 2 측정 레그들을 포함하는 간섭계 수단으로서, 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들은, 그들 중 하나 이상은 가변적인 물리적 길이를 갖고 그들 중 하나 이상은 적어도 부분적으로는 기체에 의해 점유되며, 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들 사이의 광로 길이 차이는 그들의 광로들 각각의 물리적 길이들 사이의 차이 및 상기 기체의 특성들에 따라 변화하도록 조립되고 배열되는 간섭계 수단을 제공하는 단계;상이한 파장들을 갖는 둘 이상의 라이트 빔 (light beam) 들을 발생시키는 단계;상기 라이트 빔들 각각의 제 1 및 제 2 의 소정의 부분들을 상기 간섭계 수단의 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들로 각각 도입시키어, 그럼으로써 상기 라이트 빔들의 상기 제 1 및 제 2 의 소정의 부분들 중 하나 이상이 각각 상기 제 1 및 제 2 측정 경로들을 통해 동일한 수의 패스 (pass) 들을 갖는 소정의 광로들을 따르고, 상기 라이트 빔들의 상기 소정의 제 1 및 제 2 부분들을 상기 간섭계 수단으로부터 상기 파장들에서의 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들을 통한 각각의 광로 길이들에 대한 정보를 포함하는 엑시트 빔 (exit beam) 들로서 나오게 하는 도입 단계;상기 파장들에서 상기 제 1 및 제 2 의 측정 레그들의 상기 소정의 광로들 중 대응하는 하나로부터, 상기 각 엑시트 빔들 사이의 위상 차이들에 상응하는 정보를 포함하는 혼합된 광 신호들을 만들어내기 위하여 상기 엑시트 빔들을 결합시키는 단계;상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 측정 레그들의 물리적인 경로 길이들에서의 차이 및 그들의 상대적인 변화율의 영향들에 대응하는 정보를 포함하는 전기 간섭 신호들을 발생시키기 위하여 상기 혼합된 광 신호들을 검출하는 단계; 및상기 제 1 및 제 2 측정 레그들의 상기 물리적 경로 길이들에서의 상대적인 비율들이 변화하는 것을 보상하는 동안, 상기 측정 레그(들) 에서의 상기 기체의 영향을 결정하기 위하여 상기 전기 간섭 신호들을 전자적으로 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 상이한 파장들은 서로간에 근사적인 조파 (harmonic) 관계를 갖고, 상기 근사적인 조파관계는 비율들의 순서로서 표현되며, 각 비율은 영이 아닌 작은 정수의 비율로 이루어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 40 항에 있어서,상기 비율들의 순서로서 표현되는 상기 근사적인 조파관계의 상대적인 정밀도는 크기의 차수이거나, 또는 상기 기체의 굴절률의 분산과 상기 기체의 굴절률 또는 상기 기체에 기인하는 상기 측정 레그들의 광로 길이들의 차이의 변화의 측정을 위해 요구되는 상대적인 정밀도와의 곱보다 작은 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 40 항에 있어서,상기 비율들의 순서로서 표현되는 상기 근사적인 조파관계의 상대적인 정밀도를 모니터링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 42 항에 있어서,상기 근사적인 조파관계의 상대적인 정밀도를 모니터링하는 단계에 응답하며, 상기 근사적인 조파관계의 상기 상대적인 정밀도를 크기의 차수 이내로, 또는 상기 기체의 굴절률의 분산과 상기 기체의 굴절률 또는 상기 기체에 기인하는 상기 측정 레그들의 광로 길이들의 차이의 변화의 측정을 위해 요구되는 상대적인 정밀도와의 곱보다 작게 하기 위하여, 상기 라이트 빔들을 제어하기 위한 피드백 신호를 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 둘 이상의 라이트 빔들은 각각 직교 편광 상태들을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 44 항에 있어서,상기 라이트 빔들의 상기 직교 편광 상태들 사이에 주파수 차이(들)를 도입시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 45 항에 있어서,상기 엑시트 빔들을 결합시키는 단계는 상기 라이트 빔들의 상기 편광 상태들을 혼합시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 46 항에 있어서,상기 혼합된 광 신호들에서 상기 위상 차이들에 대응하는 상기 정보는 공식에 따르는, 상기 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들의 전체적인 왕복 물리적 길이 (pL) 에서의 차이들과 관련된 위상 천이들 (Ψj) 이며, 여기에서이고, p 는 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들 중 하나 이상을 통하는 복수의 패스들의 수이며, nj 는 파장 (λj) 에 대응하는 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들 중 하나 이상에서의 굴절률들인 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 47 항에 있어서,상기 전기 간섭 신호들은 의 식으로 되는 헤테로다인 신호들을 포함하고, 여기에서 시간-의존적인 인수 j(t) 는 로 주어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 48 항에 있어서,상기 전자적으로 분석하는 단계는 상기 헤테로다인 신호들을 수신하고 상기 위상 천이들 을 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 48 항에 있어서,상기 헤테로다인 신호들로부터 둘 이상의 수정된 헤테로다인 신호들을 발생시키는 단계를 더 포함하고,상기 수정된 헤테로다인 신호들은의 식으로 되고, 여기에서이며, pj 는 p1p2 이고 상기 파장들의 상기 근사적인 조파관계로서의 비율을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 50 항에 있어서,식 으로 되는 슈퍼헤테로다인 신호를 발생시키는 단계를 더 포함하고,상기 슈퍼헤테로다인 신호 (S) 는,로서 표현되는 압축된 캐리어를 갖는 2개의 사이드밴드들로 이루어지고, 여기에서이며, 그에 의해 상기 슈퍼헤테로다인 신호 (S) 는 동일한 진폭의 2개의 사이드밴드들 (S+ 및 S-) 로 이루어지고, 제 1 사이드밴드는 주파수 (ν) 와 위상 (θ) 을 갖고 제 2 사이드밴드는 주파수 (F) 와 위상 (Φ) 을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 48 항에 있어서,상기 헤테로다인 신호들로부터의 둘 이상의 수정된 헤테로다인 신호들을 발생시키는 단계를 더 포함하고,상기 수정된 헤테로다인 신호들은 의 식으로 되고, 여기에서이며, p1 및 p2 는 p1 ≠p2 이고 상기 파장들의 상기 근사적인 조파관계로서의 비율을 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 전자적으로 분석하는 단계는 상기 측정 레그들의 물리적인 길이 (L) 들에서의 차이를 결정하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 53 항에 있어서,물리적인 길이 (L) 들에서의 상기 차이는 마이크로리소그래픽 수단의 소정의 소자들 사이의 상대적인 거리를 결정하는 데 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 53 항에 있어서,물리적인 길이 (L) 들에서의 상기 차이는 상기 기체의 역 분산 (Γ) 을 위한 소정의 값과 계산되고,여기에서이고, λ1, λ2 및 λ3 는 파장이고, n1, n2 및 n3 는 굴절률이며, 분모는 에 의해 대체될 수 있는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 라이트 빔들을 단일의 실질적으로 서로 선형적인 라이트 빔으로 정렬시켜, 상기 라이트 빔이 상기 측정 경로들 중 하나 이상을 따라 진행하게 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 간섭계 수단은 편광 미켈슨 (Michelson) 간섭계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 간섭계 수단은 차동 평면 거울 간섭계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 전기 간섭 신호들의 형성후에 상기 전기 간섭 신호들을 직접 수신하고, 상기 전기 간섭 신호들을 디지털 형태로 변환시켜 뒤따르는 다운스트림 계산들에서의 위상 에러들을 감소시키는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,웨이퍼 상에 집적 회로들을 형성하기 위하여,하나 이상의 이동가능한 스테이지를 제공하는 단계;웨이퍼 상으로 공간적으로 패턴된 방사를 촬상시키는 단계;상기 하나 이상의 스테이지의 위치를 조정하는 단계; 및상기 하나 이상의 스테이지의 위치를 측정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,하나 이상의 이동가능한 스테이지 상의 웨이퍼를 지지하는 단계;공간적으로 패턴된 방사를 생성하기 위하여 방사의 소오스를 마스크 및 렌즈 조립물을 통해 보내는 단계;상기 소오스로부터의 방사와 관련된 상기 마스크의 위치를 조정하는 단계;상기 렌즈 조립물에 의해 상기 공간적으로 패턴된 방사를 상기 웨이퍼상으로 촬상시키는 단계; 및상기 소오스로부터의 상기 방사와 관련된 상기 마스크의 위치를 측정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,제 1 및 제 2 구성요소들을 포함하는 집적 회로들을 제조하기 위한 마이크로리소그래픽 장치들을 제공하는 단계를 더 포함하고,상기 제 1 및 제 2 구성요소들은 서로에 관해 이동가능하며, 상기 제 1 및 제 2 구성요소들은 상기 제 1 및 제 2 측정 레그들에 각각 연결되고, 상기 제 2 구성요소에 관한 상기 제 1 구성요소의 위치가 측정되는 것과 같은 방식으로 서로 이동하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,라이트 빔 (write beam) 소오스로 방사의 패턴을 제공하는 단계;하나 이상의 스테이지 상의 기판을 지지하는 단계;상기 방사의 패턴과 같은 상기 라이트 빔을 상기 기판 상으로 입사시키는 단계;상기 하나 이상의 스테이지와 서로에 대한 방사의 상기 라이트빔을 위치조정하는 단계; 및상기 라이트 빔에 대한 상기 하나 이상의 스테이지의 위치를 측정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 파장들은 서로에 관해 비조파 (non-harmonic) 관계를 갖는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 39 항에 있어서,상기 전자적으로 분석하는 단계는,상기 전기 간섭 신호들을 수신하여 그로부터 위상을 추출하여 초기 전기 위상 신호들을 발생시키는 단계를 더 포함하고,상기 초기 전기 위상 신호들은 상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 측정 경로들에서의 물리적 경로 길이들의 차이 및 그들의 상대적인 변화 비율들의 영향들에 대응하는 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 65 항에 있어서,상기 전자적으로 분석하는 단계는,수정된 위상 신호들을 발생시키기 위하여 상기 파장들에 비례하는 인수들에 의해 상기 초기 위상 신호들을 곱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 66 항에 있어서,상기 전자적으로 분석하는 단계는,상기 수정된 위상 신호들을 수신하고 그들을 선택적으로 가산 및 감산하여, 상기 상이한 빔 파장들에서의 기체의 굴절률 및 상기 기체에 의해 점유되는 상기 측정 레그들의 물리적 경로 길이들에서의 차이 및 그들의 변화율의 영향들에 대응하는 정보를 포함하는 합 및 차 위상 신호들을 발생시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 67 항에 있어서,상기 전자적으로 분석하는 단계는,상기 합 및 차 위상 신호들 및 상기 초기 위상 신호들 중 하나 이상을 수신하여 상기 측정 레그들의 왕복 물리적 길이 (L) 들의 차이를 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 67 항에 있어서,상기 초기 위상과 상기 합 및 차 위상 신호들 사이의 여분들을 구하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 66 항에 있어서,상기 파장들은 비조파 관계인 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 66 항에 있어서,상기 라이트 빔들의 상기 파장들은 서로 간에 근사적인 조파 관계를 갖고, 상기 근사적인 조파 관계는 비율들의 순서로서 표현되며, 상기 비율은 영이 아닌 작은 정수의 비율로서 표현되는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.제 46 항에 있어서,상기 라이트 빔들의 상기 직교 편광 상태들 사이에 주파수 차이들을 도입시키는 단계는,상기 라이트 빔들 중 둘 이상이 그들 각각의 편광 상태들 상이의 차 주파수들을 가져, 단일 광검출기가 상기 엑시트 빔들 중 둘 이상으로부터 위상 신호들을 발생시키기 위해 사용되는 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 간섭계 방법.