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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0003428 (2001-01-20) |
공개번호 | 10-2002-0062433 (2002-07-26) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010003428 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 습식세정장비에서 웨이퍼를 세정하고 오염된 고온의 폐황산을 배출하는 방법에 관한 것으로, 고온의 폐황산을 냉각탱크로 배출하는 단계와, 폐황산을 소정 온도 이하까지 냉각탱크에서 냉각시키는 단계와, 폐황산이 소정 온도 이하까지 냉각되면, 펌프를 이용하여 냉각된 폐황산을 폐액탱크로 강제적으로 배출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 습식세정장비에서 폐황산을 배출하는 시간과 세정액을 교환하는 시간을 단축시킬 수 있는 이점이 있다.
습식세정장비에서 고온의 폐황산을 배출하는 방법에 있어서,상기 고온의 폐황산을 냉각탱크로 배출하는 단계와,상기 폐황산을 소정 온도 이하까지 상기 냉각탱크에서 냉각시키는 단계와,상기 폐황산이 소정 온도 이하까지 냉각되면, 펌프를 이용하여 상기 냉각된 폐황산을 폐액탱크로 강제적으로 배출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐황산 배출방법.
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