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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2001-0009862 (2001-02-27) |
공개번호 | 10-2002-0069608 (2002-09-05) |
등록번호 | 10-0416715-0000 (2004-01-15) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010009862 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2001-02-27) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 금속 소재나 부품의 표면을 개질하여 표면 강도 및 내마모성 등의 표면 특성을 향상시키기 위한 펄스 플라즈마를 이용한 이온 주입 방법 및 그 시스템에 관한 것이다.본 발명은 진공조 내의 시료대 위에 시료를 위치시키는 단계; 진공조 내에 플라즈마화 할 가스를 공급하는 단계; 및 상기 가스에 RF 펄스를 방사하고, 상기 시료에 음의 직류 고전압을 인가하여 플라즈마 상태로 변화된 플라즈마 이온을 시료의 표면에 주입시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스 플라즈마를 이용한 이온 주입 방법을 제공한다.
진공조 내의 시료대 위에 시료를 위치시키는 단계;진공조 내에 플라즈마화 할 가스를 공급하는 단계; 및상기 가스에 RF 펄스를 방사하고, 상기 시료에 음의 직류 고전압을 인가하여 플라즈마 상태로 변화된 플라즈마 이온을 시료의 표면에 주입시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스 플라즈마를 이용한 이온 주입 방법.제 1항에 있어서, 상기 가스에 방사되는 RF 펄스는 펄스폭 10㎲ ∼ 500㎲, 펄스주파수 10Hz ∼ 10kHz이고, 상기 시료에 인가되는 음의 직류 고전압은 -1kV ∼ -100kV인 것을 특징으로 하는 펄스 플라즈
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