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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0074564 (2001-11-28) |
공개번호 | 10-2003-0043404 (2003-06-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010074564 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2001-11-28) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 저온플라즈마를 이용한 휘발성유기화합물(VOCs) 및 악취의 제거 방법과 그 장치에 관한 것이다. 본 발명은 고전압펄스로 구동되는 저온플라즈마 반응기내의 고전계 조건에서 VOCs 및 악취물질을 직접 분해하거나 공기분자가 이온화하여 형성된 활성자유기(active free radicals)와의 화학반응을 유도하여 산화 및 환원시키는 플라즈마반응 처리단계, 그리고 이 플라즈마반응 처리단계에서 발생하는 미반응 VOCs 및 악취물질을 반응기 후단에서 제거하는 후처리단계를 포함한다. 그 후처리단계로는 플라즈마 반응기(30) 후단에 촉
고전압펄스로 구동되는 저온플라즈마 반응기내의 고전계 분위기에서 VOCs 및 악취물질을 산소분자와 함께 이온화한 활성자유기를 형성하여, 그 분위기에서 이온화되지 않은 VOCs 및 악취물질에 대해 그 형성된 활성자유기와의 화학반응을 유도하여 산화 및 환원시키는 플라즈마반응단계와, 이 플라즈마 반응단계에서 발생하는 오존과 미반응 VOCs 및 악취물질을 그 저온플라즈마 후단에서 제거하는 후처리단계로 처리하는 것을 특징으로 하는 저온플라즈마를 이용한 휘발성유기화합물 및 악취제거 방법.
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