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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0088166 (2001-12-29) |
공개번호 | 10-2002-0060058 (2002-07-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010088166 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
인산염 피막 화성처리에 있어서 화학반응의 촉진과 단시간화 및 얻어지는 인산염 피막 결정의 미세화를 도모하기 위해 사용되는 표면 조정제로서 소기의 목적을 달성할 수 있음과 아울러 경시(經時) 안정성이 우수하고, 사용조건의 제한이 경감된 인산염 처리용 표면 조정제 및 표면 조정방법을 제공함을 과제로 한다.그 해결수단으로서는, ① 호파이트[Zn3(PO4)2ㆍ4H2O] 및/또는 포스포필라이트[Zn2Fe(PO4)2ㆍ4H2O], ② 숄타이트[CaZn2(PO4)2ㆍ2H2O] 및 ③ 휴리올라이트[Mn5(PO4)2[PO3(OH)]2ㆍ4H2O]로부터
① 호파이트[Zn3(PO4)2ㆍ4H2O] 및/또는 포스포필라이트[Zn2Fe(PO4)2ㆍ4H2O], ② 숄타이트[CaZn2(PO4)2ㆍ2H2O] 및 ③ 휴리올라이트[Mn5(PO4)2[PO3(OH)]2ㆍ4H2O]로부터 선택되는 한가지의 인산염 피막의 결정격자와 2차원의 에피택시가 3% 이내의 미스피트로써 일치하는 결정으로서, 평균입경이 5 ㎛ 이하인 결정을 0.1 g/L 이상 배합해서 얻어지는 인산염 처리용 수성 표면 조정제.
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