초록

본원에는 금속-금속 결합이 최소화되고 대개 설페이트 그룹을 통해 착화되는 신규한 로듐 설페이트 착물 용액이 기재되어 있다. 이러한 용액을 로듐 도금용 전해질로서 사용하면 휘도는 향상되고 응력은 감소된 전기도금층이 제조된다.

대표청구항 ▼

로듐 금속을 황산과 반응시켜 제1 로듐 설페이트 용액을 제조하는 단계(a), 제1 로듐 설페이트 용액을 20℃ 이하의 온도로 냉각시키는 단계(b), 제1 로듐 설페이트 용액을 25℃ 이하의 온도로 유지하면서 여기에 염기를 첨가하여 제1 로듐 설페이트 용액을 중화시켜 수산화로듐을 침전시키는 단계(c) 및 침전된 수산화로듐을 황산과 배합하여 제2 로듐 설페이트 용액을 제조하는 단계(d)를 포함하여, 로듐 설페이트를 제조하는 방법.제1항에 있어서, 제2 로듐 설페이트 용액 중의 로듐 설페이트가 필수적으로 로듐-로듐 결합을 갖지 않는 방법

로듐 금속을 황산과 반응시켜 제1 로듐 설페이트 용액을 제조하는 단계(a), 제1 로듐 설페이트 용액을 20℃ 이하의 온도로 냉각시키는 단계(b), 제1 로듐 설페이트 용액을 25℃ 이하의 온도로 유지하면서 여기에 염기를 첨가하여 제1 로듐 설페이트 용액을 중화시켜 수산화로듐을 침전시키는 단계(c) 및 침전된 수산화로듐을 황산과 배합하여 제2 로듐 설페이트 용액을 제조하는 단계(d)를 포함하여, 로듐 설페이트를 제조하는 방법.제1항에 있어서, 제2 로듐 설페이트 용액 중의 로듐 설페이트가 필수적으로 로듐-로듐 결합을 갖지 않는 방법.제1항에 있어서, 염기가 수산화암모늄인 방법.제1항에 있어서, 제1 로듐 설페이트 용액이 약 10℃의 온도로 냉각되는 방법.로듐 금속을 황산과 반응시켜 제1 로듐 설페이트 용액을 제조하는 단계(a), 제1 로듐 설페이트 용액을 20℃ 이하의 온도로 냉각시키는 단계(b), 제1 로듐 설페이트 용액을 25℃ 이하의 온도로 유지하면서 여기에 염기를 첨가하여 제1 로듐 설페이트 용액을 중화시켜 수산화로듐을 침전시키는 단계(c), 침전된 수산화로듐을 황산과 배합하여 제2 로듐 설페이트 용액을 제조하는 단계(d), 제2 로듐 설페이트 용액을 포함하는 전해질 속에 음극과 양극을 침지시키는 단계(e) 및 음극에 로듐을 전기도금시키는 단계(f)를 포함하여, 로듐을 전기도금하는 방법.제5항에 있어서, 제2 로듐 설페이트 용액 중의 로듐 농도가 1.0 내지 10g/ℓ인 방법.로듐 설페이트 착물과 황산으로 이루어진 용액의 pH가 1 미만이고, 로듐의 농도가 1 내지 10g/ℓ이며, 로듐 설페이트 착물이 필수적으로 로듐-로듐 결합을 갖지 않는, 로듐 설페이트 착물과 황산으로 이루어진 용액을 포함하는 로듐 전기도금용 전해질.