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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-7000836 (2001-01-19) |
공개번호 | 10-2001-0070996 (2001-07-28) |
국제출원번호 | PCT/US1999/016118 (1999-07-16) |
국제공개번호 | WO2000005297 (2000-02-03) |
번역문제출일자 | 2001-01-19 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020017000836 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-07-13) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 폴리이미드의 고유한 물성, 예컨대 내열성 등을 유지하면서 이의 유전 상수 및 굴절율을 저하시키고, 투명도도 높은 다공성 폴리이미드를 제공하는 것을 목적으로 한다. 폴리이미드 함유 매트릭스 및 이러한 매트릭스 중에 분산된 다수의 미소공을 포함하는 다공성 폴리이미드로서, 이러한 미소공은 폴리이미드 함유 매트릭스 및 이러한 매트릭스 중에 분산된 친수성 중합체를 포함하는 전구체로부터 친수성 중합체를 제거함으로써 형성되며, 다공성 폴리이미드는 광투과율이 70% 이상인 것을 해결 과제로 한다.
폴리이미드 함유 매트릭스 및 이러한 매트릭스 중에 분산된 다수의 미소공을 포함하는 다공성 폴리이미드로서, 이러한 미소공은 폴리이미드 함유 매트릭스 및 이러한 매트릭스 중에 분산된 친수성 중합체를 포함하는 전구체로부터 친수성 중합체를 제거하므로써 형성되며, 다공성 폴리이미드는 광투과율이 70% 이상인 것을 특징으로 하는 다공성 폴리이미드.폴리이미드 함유 매트릭스 및 이러한 매트릭스 중에 분산된 친수성 중합체를 포함하고, 폴리이미드 함유 매트릭스 및 이러한 매트릭스 중에 분산된 다수의 미소공을 포함하는 다공성 폴리이미드를 소성 처리후
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