최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2001-7010093 (2001-08-09) |
공개번호 | 10-2001-0103763 (2001-11-23) |
국제출원번호 | PCT/EP2000/000720 (2000-01-29) |
국제공개번호 | WO2000047177 (2000-08-17) |
번역문제출일자 | 2001-08-09 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020017010093 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은, 지름 10 내지 300nm 범위의 나노수준의 키토산 및/또는 키토산 유도체의, 화장용 및/또는 제약학적 제제의 제조를 위한 용도에 관한 것이다. 통상의 키토산 및 키토산 유도체와 비교하여, 입자의 특별한 미세함은 국부 적용 후 피부의 각질층 및 모발의 케라틴 섬유 내로의 더 빠른 침투를 제공한다.
지름이 10 내지 300 nm 범위인 나노수준의 키토산 및/또는 키토산 유도체의 화장용 및/또는 약학적 제제의 제조를 위한 용도.제 1 항에 있어서, 분자량이 50,000 내지 2,000,000인 키토산을 사용하는 것을 특징으로 하는 용도.제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 음이온성, 비이온성 또는 양이온성으로 유도체화된 키토산을 사용하는 것을 특징으로 하는 용도.제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기의 단계에 의해 수득되는 나노 수준의 키토산 및/또는 키토산 유도체를 사용하는 것을 특징으로 하는 용도:(a)초
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.