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기재에 광촉매를 직접 고정시키는 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B01J-037/34
출원번호 10-2002-0022735 (2002-04-25)
공개번호 10-2003-0084174 (2003-11-01)
등록번호 10-0482649-0000 (2005-04-01)
DOI http://doi.org/10.8080/1020020022735
발명자 / 주소
  • 박상언 / 대전광역시중구태평*동동양아파트***-****
  • 황진수 / 대전광역시유성구도룡동***공동관리아파트*-***
출원인 / 주소
  • 한국화학연구원 / 대전 유성구 장동 ***번지
대리인 / 주소
  • 이학수; 백남훈 (Lee, Hak Soo)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-**ㅣ***네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소; 서울 강남구 역삼동 ***-*****네트워크빌딩**층(한라국제특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2002-04-25)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록 ▼

본 발명은 기재에 광촉매를 직접 고정시키는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기재에 티타늄 전구체를 기상에서 직접 분사하여 기재표면에 나노크기 광촉매(이산화티탄) 입자를 형성시킨 후 마이크로파를 조사하여 기재에 광촉매를 반영구적으로 고정시키는 방법으로서, 종래 기재에 광촉매를 고정시 사용되던 유·무기의 바인더를 사용하지 않고도 반영구적인 광촉매의 효능을 갖도록 하여 경제적이며, 또한 바인더를 사용하지 않으므로 광촉매가 대기 중에 대부분 노출되게 하여 높은 광촉매 효율을 나타내며, 나노크기의 광촉매를 기재에 고정시키므로 광촉매

대표청구항

기재에 광촉매를 고정시키는 방법에 있어서, 1) 밀폐된 공간에 기재를 넣고 여기에 티타늄 전구체를 질소운반 기체를 이용하여 기상에서 직접 분사하여 기재표면에 광촉매(이산화티탄)를 나노크기로 입자화시키는 단계; 및2) 상기 1 단계의 기재표면에 나노크기로 입자화된 광촉매에 마이크로파를 2 ∼ 30분간 조사하여 광촉매를 기재에 결합시키는 단계;로 이루어진 것을 특징으로 하는 기재에 광촉매를 직접 고정시키는 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 광촉매 코팅한 플라스틱 제조 방법 | 이성주
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