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연합인증

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연속 측면 응고를 사용하여 저온에서 단일 또는 다결정 실리콘 박막을 제조하기 위한 시스템 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-029/786
출원번호 10-2002-7002844 (2002-03-02)
공개번호 10-2002-0032563 (2002-05-03)
등록번호 10-0694749-0000 (2007-03-07)
국제출원번호 PCT/US2000/023668 (2000-08-29)
국제공개번호 WO2001018855 (2001-03-15)
번역문제출일자 2002-03-02
DOI http://doi.org/10.8080/1020027002844
발명자 / 주소
  • 아임제임스에스. / 미국*****뉴욕주뉴욕웨스트원헌드레드포틴쓰스트리트***아파트먼트**
  • 스포실리로버트에스. / 미국*****뉴욕주뉴욕아파트먼트*씨클레어몬트애비뉴***
  • 크로우더마크에이. / 미국*****뉴욕주뉴욕아파트먼트**리버사이드드라이브***
출원인 / 주소
  • 더 트러스티스 오브 컬럼비아 유니버시티 인 더 시티 오브 뉴욕 / 미국 뉴욕주 *****, 뉴욕 웨스트 ***번가 브로드웨이
대리인 / 주소
  • 주성민; 안국찬 (CHU, Sung Min)
  • 서울 종로구 내자동 세양빌딩 (김.장법률사무소); 서울 종로구 신문로*가***번지 흥국생명빌딩 *층(김.장법률사무소)
심사청구여부 있음 (2005-08-25)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 비결정질 실리콘 박막을 단일 또는 다결정 실리콘 박막으로 처리하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 시스템은 소정의 플루언스의 복수의 엑시머 레이저 펄스(111)를 생성하기 위한 엑시머 레이저(110)와, 엑시머 레이저 펄스의 플루언스를 제어식으로 조절하기 위한 에너지 밀도 조절기(120)와, 소정의 평면으로 조절된 레이저 펄스(146)를 균질화하기 위한 비임 균질기(144)와, 균질 조절된 레이저 펄스의 일부를 패턴화된 비임릿으로 마스킹하는 마스크(150)와, 비임릿에 대응하여 임의의 비결정질 실리콘 박막 샘플(1

대표청구항

비결정질 실리콘 막 샘플을 단일 또는 다결정 실리콘 박막으로 제조하기 위한 시스템에 있어서,a) 소정의 플루언스의 복수의 엑시머 레이저 펄스를 생성하기 위한 엑시머 레이저와,b) 상기 엑시머 레이저에 의해 방출된 상기 엑시머 레이저 펄스의 상기 플루언스를 제어식으로 조절하기 하기 위해 상기 엑시머 레이저에 광학식으로 결합된 에너지 밀도 조절기와,c) 소정의 평면에서 상기 조절된 레이저 펄스를 균질화하도록 상기 에너지 밀도 조절기에 광학식으로 결합된 비임 균질기와,d) 상기 균질 조절된 레이저 펄스의 일부를 패턴화된 비임릿으로 마스킹

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [미국] Method of forming polycrystalline silicon layer on substrate by large area excimer laser irradiation | Noguchi Takashi (Kanagawa JPX) Ogawa Tohru (Kanagawa JPX) Ikeda Yuji (Kanagawa JPX)
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