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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2003-0007314 (2003-02-06) |
공개번호 | 10-2003-0026264 (2003-03-31) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030007314 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2003-02-06) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 사이드로브를 제거한 무족화된 광섬유 격자 소자와 제작 기술에 관한 것임. 본 발명은 광섬유의 코아 변형 현상을 이용하여 레이저 빔 형태를 아무 변형 없이 용이하게 광섬유 격자의 무족화(apodization)를 실현할 수 있는 광섬유 격자 소자를 제작하는데 목적이 있다. 본 발명은, 광섬유의 코아를 확장시키기 위하여 광섬유에 열을 가하는 제 1 단계와 위상 마스크를 통하여 레이저빔을 조사하는 제 2 단계를 포함한다. 본 발명은 분산 특성 및 크로스토크를 줄일 수 있는 무족화된 광섬유 격자를 제조하는데 이용됨.
광섬유 격자의 제조 방법에 있어서, 광섬유의 코아를 열을 인가하여 확장 시키고 ,확장된 광섬유에 광섬유 격자를 형성시키는 것을 특징으로 하여 분광 특성 및 크로스토크 특성 개선을 위하여 사이드로브 제거할 목적으로 제작된 광섬유 격자와 코아가 확장된 광섬유 격자를 제조하는 기술.
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